光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
納米壓印系統-光刻機
引入了一個臺式、獨立的NanoImprint平臺。
這個平臺提供了一個帶有微型定位夾具的機械平臺,用于安裝納米壓印室、紫外線固化源和校準顯微鏡。
它既可以作為納米壓印系統,也可以作為傳統的掩模校準器,同時為整個壓印過程提供可編程的自動控制。
我們納米壓印系統-光刻機的優勢
•低于10納米分辨率,99%的產量
•支持硬模具和軟模具
•可變模具和基板尺寸提供的便利性和靈活性
•自動釋放工藝可防止分離過程中的模具/基板損壞,并最大限度地提高每個印記的產量。
•自動釋放工藝可防止分離過程中的模具/基板損壞,并最大限度地提高每個印記的產量。
•適用于各種應用的多功能流程:
•光學設備、顯示器、數據存儲、生物醫學
•器件、半導體集成電路、化學合成和先進材料
•帶觸摸屏用戶界面的可編程PLC允許通過定制參數進行過程控制
•專有的紫外固化納米壓印膠對硬度或厚度沒有限制,并且與傳統的光刻工藝兼容。
納米壓印技術分為三個步驟。
第一步是模板的加工。一般使用電子束刻蝕等手段,在硅或其他襯底上加工出所需要的結構作為模板。由于電子的衍射極限遠小于光子,因此可以達到遠高于光刻的分辨率。
第二步是圖樣的轉移。在待加工的材料表面涂上光刻膠,然后將模板壓在其表面,采用加壓的方式使圖案轉移到光刻膠上。注意光刻膠不能被全部去除,防止模板與材料直接接觸,損壞模板。
第三步是襯底的加工。用紫外光使光刻膠固化,移開模板后,用刻蝕液將上一步未去除的光刻膠刻蝕掉,露出待加工材料表面,然后使用化學刻蝕的方法進行加工,完成后去除全部光刻膠,最終得到高精度加工的材料。