等離子體原子/離子源-真空組件
光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電子,電氣,綜合 |
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等離子體原子/離子源-真空組件
等離子體原子/離子源
我司提供等離子體源是通過將氣體分離來產生感應耦合等離子體,包括氮氣,氧氣和氫氣等分子氣體。使用1個射頻線圈(頻率13.56MHz),能量將轉化為等離子體,這會產生僅具有低離子能量的”軟”等離子體。
我司提供的這款電子束蒸發源是由高質量,*與高真空兼容材料構成,并且可以烘烤至250℃。
等離子體原子/離子源-真空組件
應用范圍:
氧化物
氮化物
摻雜
配置參數:
多種型號不同功率RF等粒離子體源可選;
在等離子體源終端位置可添加離子束加熱器
自動匹配網絡
等粒子體監測
手動/自動 擋板
放電管
適用氣體,如O2, N2, H2, CH4等
占用空間小
冷卻水流量低,
氣體流速可控