光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電子,電氣,綜合 |
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磁控濺射靶源-真空組件
我司提供的磁控濺射源是目前一和超高真空系統(1e-11torr)匹配的商業用濺射源。 在不配置彈性墊圈的結構中,可烘烤至250℃。在匹配的超高真空環境下,可以實現超高純度的濺射沉積。
磁控濺射靶源-真空組件
應用范圍:
金屬沉積;
電介質沉積;
復合物沉積。
技術參數:
不同型號濺射源可以選用不同靶材尺寸 .1”,2”,3” 等各種靶材尺寸均可使用;
靶材厚度薄,低至4mm,節約靶材;
濺射源法蘭上帶有氣體管道,以便提高操作濺射源時的真空。
手動/馬達驅動 擋板
濺射源可設計成原位傾斜,傾斜角度(+/-30o)
氣體流量控制
進程全自動化
真空中可烘烤至250攝氏度;
占用空間小;
冷卻水流量低,僅0.5L/min