光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發生器,稀釋器,濾料測試系統
顯影機 /濕法刻蝕機
顯影機-勻膠機
器簡介:
德國品質(配有防污染內襯,標配兩個大小吸盤,性能優于美國同類品牌)
顯影機 /濕法刻蝕機技術參數:
聚四氟乙烯材質
CHEMICAL DISPENSE | 型號 | 甩干 | 清洗 | 潔凈 | 蝕刻 | 手動涂膠 | 自動涂膠 | 顯影 | 樣品襯底尺寸 |
手動滴膠 | SPIN150i | UP TO ?160mm (or 6") OR 4”x4” | |||||||
SPIN150i-IND | |||||||||
MCD200-PTFE | UP TO ?260mm (or 8") OR 6”x6” | ||||||||
MCD200-PTFE-IND | |||||||||
自動滴膠 | ACD200-PTFE | ||||||||
ACD200-PTFE-IND | |||||||||
手動滴膠 | MCD300-PTFE | UP TO ?360mm (or 12") OR 8"x8" | |||||||
MCD300-PTFE-IND | |||||||||
自動滴膠 | ACD300-PTFE | ||||||||
ACD300-PTFE-IND |
顯影機-勻膠機儀器簡介:
德國品質(配有防污染內襯,標配兩個大小吸盤,性能優于美國同類品牌)
顯影機 /濕法刻蝕機技術參數:
聚四氟乙烯材質
CHEMICAL DISPENSE | 型號 | 甩干 | 清洗 | 潔凈 | 蝕刻 | 手動涂膠 | 自動涂膠 | 顯影 | 樣品襯底尺寸 |
手動滴膠 | SPIN150i | 最大160mm (6"英寸) , 4”x4” | |||||||
SPIN150i-IND | |||||||||
MCD200-PTFE | 最大260mm ( 8"英寸) 6”x6” | ||||||||
MCD200-PTFE-IND | |||||||||
自動滴膠 | ACD200-PTFE | ||||||||
ACD200-PTFE-IND | |||||||||
手動滴膠 | MCD300-PTFE | 最大360mm (12"英寸) 8"x8" | |||||||
MCD300-PTFE-IND | |||||||||
自動滴膠 | ACD300-PTFE | ||||||||
ACD300-PTFE-IND |