橢偏儀是一種利用偏振態(tài)的變化 后光束探測(cè)樣品反應(yīng)技術(shù)。不像反射儀，橢偏儀參數(shù)（PSI和Del）是在非正常的入射角得到。改變?nèi)肷浣?。可以得到更多的?shù)據(jù)集，這將有助于精煉模型，減少不確定性和提高用戶(hù)的數(shù)據(jù)信心。因此，可變角度橢偏儀比固定角度的橢偏儀系統(tǒng)具有更強(qiáng)大的功能 。目前有兩種方法改變?nèi)肷浣?，手?dòng)或自動(dòng)模式。

Ansgtrom Sun公司設(shè)計(jì)角度調(diào)整模型，通過(guò)5度間隔后精確預(yù)置槽移動(dòng)手臂手動(dòng)調(diào)節(jié)角度和電動(dòng)精密測(cè)角0.01度分辨率兩種模型。此外，測(cè)角垂直布局設(shè)計(jì)，樣品可以水平放置，這是更安全的處理樣品時(shí)?？煽康暮妥銐虻脑紨?shù)據(jù)集，更多膜的性能參數(shù)，如薄膜或涂層 厚度，光學(xué)常數(shù)（折射率n，消光系數(shù)k指數(shù)）、接口、孔隙度甚至成分可以通過(guò)建模。在這個(gè)意義上，*的軟件是一個(gè)必須為高性能光譜橢偏儀（SE）工具。我們開(kāi)發(fā)了TFprobe 3 x版軟件的系統(tǒng)設(shè)置。仿真，測(cè)量，分析，數(shù)據(jù)管理和2D / 3D圖形演示的一體機(jī)。  此外，SE200工具覆蓋了很寬的波長(zhǎng)范圍內(nèi)，從深紫外線(xiàn)（DUV）在可見(jiàn)光到近紅外（250～1100nm），標(biāo)準(zhǔn)配置。DUV范圍適合衡量超薄膜，如納米厚度范圍。一個(gè)例子是在硅晶片上的原生氧化層，這是典型的2nm厚的。深紫外光譜橢偏儀也是必不可少的，用戶(hù)需要測(cè)量多種材料的帶隙。