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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>凈化/清洗/消毒>等離子清洗機>PDC-32G Harrick 等離子清洗機

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PDC-32G Harrick 等離子清洗機

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First-Nano System GmbH 

  • 2003年          創立于德國德累斯頓工業大學(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德國韋氏納米系統(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德國韋氏納米系統(香港)有限公司中國代表處,負責中國區業務

  • 2018年          深圳正式成立韋氏納米系統(深圳)有限公司,更好的為中國南方區市場

     

德國韋氏納米系統成立以來,一直為客戶想的更多,Thinking more !!!

 

產品范圍:

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

等離子清洗機,均膠機,薄膜沉積,刻蝕

1. 高分子材料表面修飾。

2. 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

3. 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。

4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。

5. 清洗半導體元件、印刷線路板。

6. 清洗生物芯片、微流控芯片。

7. 清洗沉積凝膠的基片。

8. 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。

9. 牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。

10. 改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

 

主要特點:

1. 緊湊臺式設備、沒有RF放射、符合CE安全標準。

2. 功率為低、中、高三檔可調。

3. 基本型:

- 清洗腔:長6.5英寸,直徑3英寸,腔蓋可拆卸;

- RF線圈最大施加功率18W;

- 1/8NPT針孔閥控制氣流及腔體壓力;

- 整機尺寸:8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D;

- 重量:13 lbs;

4. 選配件

- 石英等離子清洗腔;

- 氣體流量混合器;

- 真空泵;



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