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化工儀器網>產品展廳>實驗室常用設備>恒溫/加熱/干燥>真空烘箱>PVD-210-HMDS 電腦式HMDS涂膠機烤箱

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PVD-210-HMDS 電腦式HMDS涂膠機烤箱

參考價 150000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 上海實貝儀器設備廠
  • 品牌 TATUNG
  • 型號 PVD-210-HMDS
  • 產地 上海市
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2020/4/23 13:27:20
  • 訪問次數 5256

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


上海實貝儀器設備廠成立于2010年,是生產銷售實驗室設備、儀器儀表、醫用及分析設備的廠家,企業憑借有經驗的研發設計團隊及高效的制造能力,使產品技術不斷創新,改進提升產品質量。現以生產銷售恒溫設備為核心的上海實貝儀器設備廠用全新的面貌服務客戶,“服務于客戶,立足于客戶”是我們的經營理念,也是我們一直秉承的銷售思路,因為我們相信客戶才是企業的原動力,也是企業發展的基本。我們提供優質的產品、完善的售后服務,并信守誠信經營的原則,服務好每一位客戶,讓客戶滿意就是我們的責任與義務。
產品廣泛應用于航空、航天、通訊、機械電子、半導體、電器、汽車、化工、生物醫藥、醫療、食品、農業科學、紡織、專科院校及科研等各領域。
主營產品: 干燥箱,高溫烘箱,低溫恒溫培養箱,真空干燥箱,高低溫試驗箱,恒溫恒濕箱,生化培養箱,干烤滅菌器,恒溫水浴箱,老化箱,潔凈烘箱,高溫無氧烤箱,真空攪拌脫泡機, HMDS真空烘箱,各類工業流水線烘道產品及恒溫設備。

 

 

干燥箱,真空干燥箱,高溫烘箱,恒溫培養箱,低溫培養箱,恒溫恒濕箱,生化培養箱,霉菌培養箱,光照培養箱,高低溫試驗箱,潔凈烘箱,高溫無氧烘箱,熱風循環烘箱,老化箱,馬弗爐

產地類別 國產 應用領域 化工,石油,能源,電子,印刷包裝

電腦式HMDS涂膠機烤箱

電腦式HMDS涂膠機烤箱

HMDS預處理真空烘箱

一、預處理系統的必要性:

在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,而涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝顯得更為必要,尤其在所刻線條比較細的時候,任何一個環節出現一點紕漏,都可能導致光刻的失敗。在涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而晶片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,如果在晶片表面直接涂膠的話,會造成光刻膠和晶片的黏合性較差,甚至造成局部的間隙或氣泡,涂膠厚度和均勻性都受到影響,進而會影響了光刻效果和顯影,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和晶片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕,所以涂膠工藝中引入一種化學制劑HMDS(六甲基二硅氮甲烷,英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到晶片表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物,是一種表面活性劑,它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。

二、產品結構與性能

2.1產品結構:

1.設備外殼采用優質冷軋鋼板表面靜電噴塑,內膽316L不銹鋼材料制成;無縫不銹鋼加熱管,均勻分布在內膽外壁,內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置;鋼化、防彈雙層玻璃觀察窗,便于觀察工作室內物品實驗情況。

2.箱門閉合松緊能調節,整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內保持高真空度。

3溫度微電腦PID控制,系統具有自動控溫、定時、超溫報警等,LCD液晶顯示,觸摸式按鍵,控溫準確可靠。

4.智能化觸摸屏控制系統配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時間。

5.HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計,使真空箱密封性能*,確保HMDS氣體無外漏顧慮。

6.無發塵材料,適用百級光刻間凈化環境使用。

2.2產品性能:

1.由于是在經過數次的氮氣置換再進行的HMDS處理,所以不會有塵埃的干擾,系統是將去水烘烤和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進行,晶片在容器里先經過100℃-200℃的去水烘烤,再接著進行HMDS處理,不需要從容器里傳出而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機會大大降低,所以有著更好的處理效果。

2.由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態涂布不可比擬更好的均勻性。

3.液態涂布是單片操作,而本系統一次可以處理多達4盒的晶片,效率高。

4.用液態HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統處理4盒晶片所用藥液還多,經實踐證明,更加節省藥液。

5. HMDS是有毒化學藥品,人吸入后會出現反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整個過程是在密閉的環境下完成的,所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機,所以也不會對環境造成污染,更加環保和安全。

三、技術參數:

規格型號

PVD-090-HMDS

PVD-210-HMDS

容積(L)

90L

210L

控溫范圍

RT+10~250℃

溫度分辨率

0.1

控溫精度

±0.5

加熱方式

內腔體外側加溫

隔板數量

2PCS

3PCS

真空度

<133Pa(真空度范圍100~100000pa)

真空泵

抽氣速度4升/秒,型號DM4

電源/功率

AC220/50Hz,3KW

AC380V/50Hz,4KW

內膽尺寸W*D*H(mm)

450*450*450

560*640*600

外形尺寸W*D*H(mm)

650*640*1250

1220*930*1755

連接管:316不銹鋼波紋管,將真空泵與真空箱*密封無縫連接

備注:選配溫度壓力記錄儀時,因工藝需要改變設備整個外箱結構,請參考實物圖。外殼采用優質冷軋鋼板粉末靜電噴涂,內膽采用316L不銹鋼,外箱尺寸為(W*D*H)mm:980x655x1600(含下箱柜高700),下箱柜空置。適用于增加各類選配功能。

四、HMDS預處理系統的原理:

HMDS預處理系統通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

五、HMDS預處理系統的一般工作流程:

首先確定烘箱工作溫度。典型的預處理程序為:打開真空泵抽真空,待腔內真空度達到某一高真空度后,開始充入氮氣,充到某低真空度后,再次進行抽真空、充入氮氣的過程,到達設定的充入氮氣次數后,開始保持一段時間,使硅片充分受熱,減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空,充入HMDS氣體,在到達設定時間后,停止充入HMDS藥液,進入保持階段,使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間后,再次開始抽真空。充入氮氣,完成整個作業過程。HMDS與硅片反應機理如圖:首先加熱到100-200,去除硅片表面的水分,然后HMDS與表面的OH一反應,在硅片表面生成硅醚,消除氫鍵作,從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續到空間位阻(*基硅烷基較大)阻止其進一步反應。

開箱溫度可以由user自行設定來降低process時間,正常工藝在50分鐘-90分鐘(按產品所需而定烘烤時間),為正常工作周期不含降溫時間(因降溫時間為常規降溫))。

六、尾氣排放:

多余的HMDS蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到廢氣收集管道。在無廢氣收集管道時需做專門處理。

七、產品操作控制系統配置:

1. 標配DM4直聯旋片式真空泵(外置);需要使用干泵可選愛德華或安捷倫(選購)

2. LCD液晶顯示溫度控制器,PLC觸摸屏操作模塊

3. 固態繼電器;加急停裝置

其它選配:

1.波紋管2米或3米(標配是1米)

2.富士溫控儀表(溫度與PLC聯動)

3.三色燈 4.增加HMDS藥液瓶

5.低液位報警(帶聲光報警)

6.HMDS管路加熱功能

7.開門報警     8.下箱柜子(304不銹鋼)    9.壓力溫度記錄儀

 



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