臺式勻膠機型號：KWD
臺式勻膠機
：（Spin Coater)適合半導體硅片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合硅片,晶片,基片,ITO導電玻璃等各種膠體的工藝制版表面涂覆或光刻工藝勻膠。
技術參數：旋轉速度：200-2000rpm，精度：±0.5%
勻膠時間：3-60s可調
基材尺寸：Φ200-Φ600 200mm×200mm～500×500mm
適用材料： 硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs、GaN、InP等多種材料
技術參數：旋轉速度：200-2000rpm，精度：±0.5%
勻膠時間：3-60s可調
基材尺寸：Φ200-Φ600 200mm×200mm～500×500mm
適用材料： 硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs、GaN、InP等多種材料
電機功率：320w
LED數字顯示：轉速穩定度：±0.5%，膠的均勻性：±5%
Z大加速度：加速度：≥500rpm/sec
LED數字顯示：轉速穩定度：±0.5%，膠的均勻性：±5%
Z大加速度：加速度：≥500rpm/sec
儀器尺寸：980mm×855mm×855mm
適合半導體硅片的勻膠鍍膜等其用途廣泛包括適合硅片,晶片,基片,ITO導電玻璃等各種膠體的工藝制版表面涂覆或光刻工藝勻膠。
技術參數：旋轉速度：200-2000rpm，精度：±0.5%
勻膠時間：3-60s可調
基材尺寸：Φ200-Φ600 200mm×200mm～500×500mm
適用材料： 硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs、GaN、InP等多種材料
技術參數：旋轉速度：200-2000rpm，精度：±0.5%
勻膠時間：3-60s可調
基材尺寸：Φ200-Φ600 200mm×200mm～500×500mm
適用材料： 硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs、GaN、InP等多種材料
電機功率：320w
LED數字顯示：轉速穩定度：±0.5%，膠的均勻性：±5%
Z大加速度：加速度：≥500rpm/sec
儀器尺寸：980mm×855mm×855mm
LED數字顯示：轉速穩定度：±0.5%，膠的均勻性：±5%
Z大加速度：加速度：≥500rpm/sec
儀器尺寸：980mm×855mm×855mm
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