XC3-CX-9800L 全譜直讀光譜儀
- 公司名稱 北京精測電子科技有限公司
- 品牌
- 型號 XC3-CX-9800L
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2018/1/2 11:31:51
- 訪問次數(shù) 999
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全譜直讀光譜儀
落地式全譜直讀光譜儀是我公司引進歐洲技術(shù)生產(chǎn),是目前*的*的第二代CCD光譜儀技術(shù),廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制,爐前化驗,中心實驗室成品檢驗。XC3-CX-9800L落地式體積小、穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。
XC3-CX-9800L光譜儀的優(yōu)勢
1、*的第二代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)(數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù))、通道不受限制;
2、引進歐洲技術(shù)、同光譜儀技術(shù)同步,國內(nèi)*能生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商;
3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費用
4、升級多基體方便,無須變動增加硬件;
5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)*性;
6、體積小、重量輕,移動安裝方便;
7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性;
8、節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。
主要特點:
1、XC3-CX-9800L落地式可測定包括痕量碳(C),磷(P),硫(S)元素,適用于多種金屬基體,如:鐵基,鋁基,銅基,鎳基,鉻基,鈦基,鎂基,鋅基,錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;
2、XC3-CX-9800L落地式分析速度快捷,20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時間及標線,使儀器用zui短的時間達到*的分析效果;
3、XC3-CX-9800L落地式光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室,激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室,實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測定結(jié)果準確,重現(xiàn)性及*穩(wěn)定性;
4、XC3-CX-9800L落地式特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計,使真空室容積更小,抽真空速度不到普通光譜儀的一半;
5、XC3-CX-9800L落地式自動光路校準,光學(xué)系統(tǒng)自動進行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線,與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當前的像素位置進行測定;
6、XC3-CX-9800L落地式開放式的電極架設(shè)計,可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;
7、XC3-CX-9800L落地式工作曲線采用標樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴展范圍,每條曲線由多達幾十塊標樣激發(fā)生成,自動扣除干擾;
8、XC3-CX-9800L落地式HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料;
9、CXC3-CX-9800L落地式固態(tài)吸附阱,防止油氣對光室的污染,提高*運行穩(wěn)定性;
10、CXC3-CX-9800L落地式銅火花臺底座,提高散熱性及堅固性能;
11、XC3-CX-9800L落地式合理的氬氣氣路設(shè)計,使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;
12、XC3-CX-9800L落地式采用鎢材料電極,電極使用壽命更長,并設(shè)計了電極自吹掃功能,清潔電極更加容易;
13、XC3-CX-9800L落地式高性能DSP及ARM處理器,具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況;
14、XC3-CX-9800L落地式儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計算機升級與儀器配置無關(guān),使儀器具有更好的適用性;
15、XC3-CX-9800L落地式核心器件全部*,保證了儀器優(yōu)秀的品質(zhì)。
產(chǎn)品參數(shù)指標:
光學(xué)系統(tǒng) | |
光學(xué)結(jié)構(gòu) | 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng) |
光室溫度 | 自動控制恒溫:35℃±0.5℃ |
波長范圍 | 160-800nm |
光柵焦距 | 350 mm |
光柵刻線 | 3600 l/mm |
一級光譜線色散率 | 1.2 nm/mm |
探測器 | 多塊高性能線陣CCD |
平均分辨率 | 10pm/pixel |
激發(fā)臺 | |
氣 體 | 沖氬式 |
氬氣流量 | 激發(fā)時3-5L/min, 待機時:無須待機流量 |
電 極 | 鎢材噴射電極技術(shù) |
吹 掃 | 點擊自吹掃功能 |
補 償 | 熱變形自補償設(shè)計 |
分析間隙 | 樣品臺分析間隙:4mm |
激發(fā)光源 | |
類 型 | HEPS數(shù)字化固態(tài)光源 |
頻 率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 1-80A |
特殊技術(shù) | 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計 |
預(yù) 燃 | 高能預(yù)燃技術(shù) |
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) | |
處理器 | ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
接 口 | 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 |
電源與環(huán)境要求 | |
輸 入 | 220VAC 50Hz |
功 率 | 分析時zui大700W,待機狀態(tài)40W |
工作溫度 | 10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h) |
工作濕度 | 20-80% |
尺寸與重量 | |
主機尺寸 | 800*750*500 mm |
重 量 | 120Kg
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