大氣寬幅低溫等離子表面處理機

PTL-普特勒常壓射頻輝光等離子系統的應用領域

FPD 方面

LCD, LTPS, OLED等各種基板玻璃表面清洗和連接前工藝的設備，不需要真空排氣。采用均勻大氣壓等離子，以大氣壓等離子的問題點Stremer或者Arc的產生為準則阻斷，基板上無損壞的表面清洗工藝。另外多元電極和原有大氣壓等離子技術相比，擴張性比較容易，所以從*代較小的基板開始到第十代3000mm擴大的大型基板都可以使用。

TSP 方面

觸摸屏的主要工藝的清洗，提高OCA/OCR，壓層，ACF，AR/AF涂層等工藝上的粘合力/涂層力，為去除氣泡/異物，通過多種大氣壓等離子形態的運用，可以將各種玻璃，薄膜均勻的大氣壓等離子放電使表面無損壞進行處理。

半導體 方面

半導體成型工藝，刻模工藝&焊接工藝，焊球連接&安裝工藝的廣泛使用可以提高芯片和環氧間的粘結力，和引線框架的安裝和粘接力，板材和焊球之間的粘結力。防止半導體特性上的電氣損壞或者容易發生的靜電問題 ，可以采用多元系統技術。另外，因為可以根據硅片的大小制造大氣壓等離子，無論多小的等離子都可以適用。

大氣寬幅低溫等離子表面處理機

工作原理

材料等離子處理前后表面能的變化比對 

上圖中是經過等離子處理后的效果比對照片，處理過的位置材料表面張力*提高，達到親水效果，從而使粘接效果得到*改善。

    PTL公司提供個性化的定制服務，根據不同行業、不同客戶，實現等離子系統性能、配置、工裝的量身定制，zui大程度滿足客戶需求。