NPE-4000（M） PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO₂, Si₃N₄, 或DLC薄膜到zui大可達12" 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵，腔體可以達到低至10^-7 torr的真空。標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋zui廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。

NPE-4000（M） PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)應(yīng)用：

等離子誘導(dǎo)表面改性：就是通常所說的用等離子實現(xiàn)表面改性(如親水性、疏水性等)
等離子清洗：去除有機污染物
等離子聚合：對材料表面產(chǎn)生聚合反應(yīng)
沉積二氧化硅、氮化硅、DLC(類金剛石)，以及其它薄膜
CNT(碳納米管)和石墨烯的選擇性生長：在需要的位置生長CNT或石墨烯。

特點：

獨立型立式系統(tǒng)
不銹鋼或鋁制腔體
極限真空可達10-7Torr
RF淋浴頭，HCD或微波等離子源
高達12"(300mm)直徑的樣品臺
RF射頻偏壓樣品臺
水冷樣品臺
可加熱到的800 °C樣品臺
加熱的氣體管路
加熱的液體傳送單元
抗腐蝕的渦輪分子泵組
1路載體氣體以及3路反應(yīng)氣體，帶MFC
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
菜單驅(qū)動，4級密碼訪問保護
完整的安全聯(lián)鎖

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NPE-4000（M） PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)

公司介紹 主營產(chǎn)品

FIRSTNANO成立于2012年，一家由三位材料學博士共同創(chuàng)辦的德國公司。基于 “Science is international”的想法，“全球協(xié)同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學家到科學家，科學開創(chuàng)美好未來。

公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛，其中包括消費電子、航空、航天、醫(yī)藥技術(shù)、半導(dǎo)體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機構(gòu)。

在成長的過程中，我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來，我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機構(gòu)。

我們真誠邀請業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢想揚帆起航！

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