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微波等離子去膠機

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  自1999年成立以來,北京匯德信科技有限公司始終秉承“誠信、專業、創新”的宗旨,將上*的納米科學技術設備引進到國內。我們與德國亞琛工業大學、德國明斯特大學、德國斯圖加特大學、德國卡爾斯魯爾納米中心及德國Max-Planck研究所等科研院所有著緊密的合作,并系統地代理了德國Raith(電子束光刻系統)、Novocontrol(寬頻介電阻抗譜儀)、荷蘭TSST(脈沖激光沉積系統)等多家*產品。產品覆蓋了微納米制造、檢測、分析等相關領域。產品已經被國內眾多科研院所和大學使用,并得到用戶*好評和認可。

 

  作為幾十家的國內*代理,匯德信已建立起以客戶為中心,為客戶解決科研需求的銷售團隊和專業的技術支持隊伍。公司不定期地組織技術人員出國培訓,提升技術水平,更好地為客戶提供技術解決方案。

 

  我們經過多年的技術積累,并與國內用戶、國外廠商緊密合作,共同研發具有獨立知識產權的高科技含量的科研儀器。從“代理”產品走向 “研發”產品,邁出了具有重大意義的一步。2014年我們在常州建立了常州雷歐儀器有限公司,致力于開發研制符合國內用戶需求的高品質、高性價比的薄膜沉積設備。

 

  我們本著將上*的科技和企業引進到國內的理念,在德國對華經濟技術合作中心(IWC)、江蘇省政府、德國北威州共同努力下,在江蘇省常州市創建了江蘇中德創新中心有限公司,中心憑借*理念和掌握大量的德國*和企業資源,重點抓住“中德合作”和“創新”這兩個主軸,確保實現:知識轉化為技術;實驗室走向市場;技術變為產品;科技人才成為創業者。

分子束外延系統,脈沖激光沉積系統,電子束光刻/聚焦離子束系統,紫外光刻機,去膠機,寬頻介電阻抗譜儀,三維表面形貌儀,納米壓印模板,光刻膠等

去膠工藝是微加工實驗中一個非常重要的過程。在電子束曝光、紫外曝光等微納米加工工藝之后,都需要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠去除的是否干凈*、對樣片是否有損傷等問題將直接影響到后續工藝的順利完成。德國ALPHA PLAMSA擁有多年的去膠經驗,致力于給您提供專業的微波等離子去膠機,并提供專業的服務。

臺式去膠機       柜式去膠機

  桌面式微波等離子去膠機            立式

 

產品優勢:

  • 去膠快速*
  • 對樣片無損傷
  • 操作簡單安全
  • 設計緊湊美觀
  • 產品性價比高

 

產品用途:

  • 高劑量離子注入光刻膠的去除
  • 濕法或干法刻蝕前后的去殘膠
  • MEMS中犧牲層的去除
  • 去除化學殘余物
  • 清除浮渣工藝

 

SU-8膠的去除:

 

MEMS工藝中經常用到SU8光刻膠,然而SU8非常穩定,其zui致命的缺點就是去膠困難。為了解決SU-8光刻膠的去膠問題,我們向您*德國Alpha Plasma專業的SU-8,該設備采用氟基氣體的去膠工藝,利用氟基氣體與SU-8膠的化學反應,實現快速去除SU-8功能。同時設備中還集成了溫控系統,去膠過程中對襯底溫度的控制保證了高深寬比金屬結構的完整性,zui終實現高質量MEMS器件的制備。SU-8去膠速率驗收指標為1μm/min,實驗中可達到幾個微米。因此這款專業的SU8去膠機是MEMS去膠工藝的理想選擇。

 

更多信息,請查看:http://www.germantech。。com.cn/new/cplook.asp?id=400 

 



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