一、勻膠顯影機POLOS200產品概述：

     POLOS系列勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機由動力系統、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。

二、勻膠顯影機POLOS200勻膠顯影機工作原理：

POLOS系列顯影系統具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應用的要求重復進行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮氣）等zui后的處理步驟。采用此序貫閥門技術的晶圓片和管道在*干燥的環境中開通和關閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態的位置還可以蓋內調節。勻膠顯影機還有可選擇的動態線性或徑向滴膠的特性。

三、勻膠顯影機主要性能指標：      

1、腔體尺寸：302 毫米；

2、Wafer&芯片：260毫米的晶圓片或者6x6英寸（125毫米）的方片；

3、非真空托盤：聚丙烯材質非真空托盤，可承載2、3英寸及260毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能；

3、轉動速度：0-12,000rpm，

5、馬達旋涂轉速：穩定性能誤差 < ±1%；

6、工藝時間設定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；

7、高精度數碼控制器：PLC控制，設置點精度小于0.006%；

8、程序控制：可存儲20個程序段，每個程序段可以設置51步不同的速度狀態；

9、分辨率：分辨率小于0.5轉/分，可重復性小于±0.5轉/分，美國國家標準技術研究院（NIST）認證過的，并且無需再校準！]

10、腔體開關蓋板：透明ECTFE材質圓頂蓋板，便于實時進行可視化操作；

11、腔體材質說明：用聚丙烯材質制成的帶有聯動傳感觸點的合瓣式艙體；

12、配套真空泵系統：無油型 220~240伏交流，50/60赫茲；