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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>YZ-2020 宇正YZ-2020天線耦合石英鐘罩式微波等離子體化學氣相沉積裝置

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YZ-2020 宇正YZ-2020天線耦合石英鐘罩式微波等離子體化學氣相沉積裝置

具體成交價以合同協議為準

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    合肥宇正等離子體技術有限公司(宇正公司)是以微波等離子體應用技術及其相關裝置、工藝為研究開發對象的高科技公司,專業從事微波等離子體應用技術研究開發和生產,致力于微波等離子體應用技術的科技成果轉化和產業化。宇正公司的主營業務為等離子體技術應用設備與制品,微波能應用技術設備與制品,以及科技咨詢與技術服務等。


    合肥宇正等離子體技術有限公司依托*合肥物質科學研究院(包括等離子體物理研究所、智能機械研究所等單位)與中國科學技術大學的人才資源和技術優勢,由部分*從事國家重大科學工程的科技研發人員創建,擁有一批微波等離子體應用技術方面的*專家和中堅骨干,形成一支經驗豐富的集高頻,微波和等離子體技術、電氣自控技術、機械設計加工以及成套工程技術和高級管理相結合的精干團隊。宇正公司緊密追蹤微波等離子體應用技術的*水平,站在技術發展的前沿。宇正公司還擁有嚴格的質量管理和*的顧客服務體系。宇正公司的宗旨是為用戶提供優質的微波等離子體應用技術產品和滿意的服務。


    宇正公司具有微波、真空、等離子體測試手段,計算機CAD系統,多種微波和等離子體實驗研究系統以及必要的工藝和機械加工裝配手段,具備了從理論計算、數值模擬、工程設計、加工裝配、調試檢驗、批量生產和質量控制等一整套研開發以及專業化生產的優勢能力。公司具有可靠的材料,元器件供貨渠道和外協加工配套基地。宇正公司技術核心團隊成員從事微波等離子體應用技術研究開發二十余年,曾到*公司和大學研究機構訪問合作,將*的技術和理念直接引進國內。經過多年堅持不懈的研究和開發,已在微波等離子體*領域形成了一套具有自主知識產權的系列產品和技術,在國內居*地位。并已與國內眾多家用戶有著密切的合作關系和良好的信譽。


    宇正公司曾經為多個用戶制造過不銹鋼腔體式、石英管式、石英鐘罩式和水冷夾套不銹鋼腔體式微波等離子體化學氣相沉積制備金剛石膜裝置,微波等離子體余輝聚合有機薄膜裝置,微波等離子體小試樣紡織品處理裝置,微波等離子體高聚物表面活化裝置,微波等離子體清洗(去膠)裝置,通用型ECR等離子體裝置,ECR等離子體源離子注入(ECRPIII)裝置等等,宇正公司也是微波等離子體應用領域的高技術研究向產業化轉化的操作平臺,根據市場需要自行研制各種微波等離子體應用裝置,或者與有關大學(研究所或企業研發部門)合作研制特定用途的微波等離子體*設備與工藝,*國內技術空白。

YZ-2多功能微波等離子體裝置
金剛石膜制備裝置
紡織品處理裝置
高聚物表面活化裝置
微波等離子體清洗去膠裝置

概述

宇正YZ-2020天線耦合石英鐘罩式微波等離子體化學氣相沉積裝置由合肥宇正等離子體技術有限公司研發生產。該裝置早在2000年就通過省*鑒定并在多所大學與科研院所等單位投入使用,效果良好。歷經多年發展,該裝置技術*,性能穩定,使用方便可靠。
 
宇正YZ-2020天線耦合石英鐘罩式微波等離子體化學氣相沉積裝置由微波系統、沉積室、氣路系統、真空系統、循環水冷卻系統和電子控制系統組成。裝置的主要工作原理是由微波源產生頻率為2450MHz的微波,沿波導管傳輸,從而激發和維持軸對稱橢球狀等離子體。該裝置實現了微波與等離子體的軸對稱耦合,增強了沉積腔中心部位的電場強度,提高了微波功率的輸入水平,改善反映沉積室對微波傳輸線的阻抗匹配,zui后在諧振腔的真空室部分(石英鐘罩)內激勵氣體形成軸對稱的等離子體球,等離子體球的直徑大小取決于真空沉積室中的氣體壓力和微波功率。基片溫度以微波等離子體的自加熱方式達到。
 
技術指標與特性
1)         裝置采用2XZ-4旋片式真空泵。配有熱偶規真空計和壓阻規真空計測量不同范圍真空度。本底真空0.1pa。工作真空由高真空隔膜閥粗調和高真空微調閥細調手動控制并由相應的真空計測量顯示。
2)         微波發生器由帶有水冷磁控管的激勵腔和微波源供電電源組成。微波頻率2.45GHz。微波功率0-800W連續可調(zui大功率可達1200W)。帶有微波輸出功率顯示(精確至1W)和反射指示。可長時間連續工作。
3)         微波系統配有環行器、帶反射功率檢測的水負載、三螺釘阻抗調配器、模式轉換器、微波諧振腔。整個系統無微波泄露。
4)         兩路氣體輸入,可用氮氣、氧氣、氫氣、甲烷等常用氣體。氣體流量采用玻璃轉子流量計(德國引進技術)顯示和調節并由高真空微調閥手動控制。按用戶要求亦可選用多路質量流量控制器和質量監控顯示盒組成的自動控制氣路系統,費用另計。
5)         沉積室由外徑130mm的石英罩、石英均流罩和可手動升降的石英基片臺(和石墨基片臺)組成。采用反應氣體均流措施,改善了沉積環境。在沉積金剛石膜時,工作氣壓3—13Kpa,基片以微波等離子體的自加熱實現加溫可達500—1100C。
6)         裝置常規采用380V三相電源。按用戶要求亦可采用220V單相電源。
7)         根據用戶要求,裝置可選配*的自動控制與保護系統,當水、電或氣出現故障時,裝置會報警并自動關機,可實現長時間無人值守與穩定運行,特別適用于金剛石薄膜沉積。


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