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化工儀器網>產品展廳>分析儀器>X射線儀器>X射線熒光光譜儀(XRF)>FT9500 X射線熒光鍍層厚度測量儀

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FT9500 X射線熒光鍍層厚度測量儀

具體成交價以合同協議為準

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       我司主要經營范圍為:分析測量儀器及其零部件的研發、生產,計算機軟件的開發、設計、制作,銷售自產產品,系統集成的設計、調試、維護,提供相關的技術咨詢與售后服務,精密儀器的維修;上述同類產品的批發、進出口、傭金代理(拍賣除外)(涉及行政許可證,憑許可證經營)。

熱分析、X射線熒光分析儀,膜厚儀等

X射線熒光鍍層厚度測量儀規格參數:
FT9500產品規格
可測量元素:原子序數13(Al)~83(Bi)
X射線聚光:聚光方式
X射線源:管電壓:50kV 

                管電流:1mA
檢測器:Vortex®檢測器(無需液氮)
分析范圍:Φ0.1mm、Φ5mm
樣品觀察:彩色CCD攝像頭(附變焦功能)
濾波器:3種模式自動切換
樣品室:樣品平臺      240(W)×330(D)mm
                 移動量      X:220mm  Y:150mm   Z:150mm
                 載重量      10kg
重量:123kg(不含電腦)
X-ray Station:臺式電腦 19"LCD (OS; MS-Windows XP®)
膜厚測量軟件:薄膜FP法(zui多五層,各層十種元素)
                        檢量線法(單層、雙層、合金膜厚成分)
定量分析功能:塊體FP法
統計處理功能:MS-EXCEL®
報告制作:MS-WORD®
安裝環境:溫度:10℃~35℃(±)5℃
                 濕度:35%~80%
使用電源:接地三頭插座 AC100、15A

 

 

日立 FT9500 X射線熒光鍍層膜厚測量儀特點:

1. 薄膜?多層膜測量

日立 FT9500 X射線熒光鍍層厚度測量儀通過采用新型的毛細管(X射線聚光系統)和X射線源,把與以往機型FT9500同等強度的X射線聚集在30 μmΦ的極微小范圍。因此,不會改變測量精度即可測量幾十微米等級的微小范圍。
同時,也可對幾十納米等級的Au/Pd/Ni/Cu多鍍層的各層膜厚進行高精度測量。

2. 異物分析

通過高能量微小光束和高計數率檢測器的組合,可進行微小異物的定性分析。利用CCD攝像頭選定樣品的異物部分并照射X射線,通過與正常部分的能譜差進行異物的定性分析(Al~U)。

3. 數據編輯功能

配備了Microsoft® Excel和Microsoft® Word。在Microsoft® Excel上面配備了統計處理軟件,可以進行測量數據、平均值、zui大/zui小值、C.V.值、Cpk等的統計處理。 另外,通過Microsoft® Word可以簡單的制作包含了樣品畫圖的測量報告書。

4. 高強度照射

X射線熒光鍍層厚度測量儀通過高強度照射在微小部分也可以鮮明的觀察、聚焦位置。



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