插層石墨研磨設備 是一種利用物理或化學的方法使非碳質反應物插入石墨層間，與碳素的六角網絡平面結合的同時又保持了石墨層狀結構的晶體化合物。石墨插層化合物不僅保留了石墨原有的理化性質，而且由于插入物質與碳層之間的相互作用而呈現出石墨與插層物質均不具備的一些新的特性

高導電率材料  電池材料   密封材料   由于石墨層間化合物的內表面積非常大，而且具有選擇性的吸附作用，所以可以用作催化劑。用.GIC作為催化劑, 成本低, 收率高, 且容易將反應控制在更加溫和的條件下進行。

插層石墨主要如何利用 

當前主要瓶頸有兩點，一是低成本高品質石墨烯原料的規?；a，二是石墨烯的商業化應用。有人可能覺得第  納米研磨分散機是由膠體一個已不是問題，因為已有多個十噸乃至百噸級產線投產，規模化看似已迎刃而解。事實真是如此嗎？除了產能，我認為更重要的是品質，因為原料的品質直接決定其應用屬性。對于實際應用，純度是否足夠高？批次穩定性如何？成本是否還有壓縮空間？生產過程可否更綠色？技術的進步永無止境，可靠的原料永遠是石墨烯產業化的基石。

對于第二點，我想大家談的比較多了，這是產品出路和價值體現的問題，非常關鍵，但也很難。作為一種新材料，石墨烯的*年屬于應用發散期，即大家認為石墨烯幾乎是*的，然后在不同領域嘗試應用，是在做加法。目前，我們已步入應用集中期，要開始做減法了，因為大部分潛在應用在實踐中被證實并無實用價值，或是技術上，或是商業上。在這個階段，產業鏈上下游的互動非常必要。我們必須面向用戶進行二次開發，去解決分散和成型等共性技術難題，讓石墨烯更接“地氣”。zui終交給用戶的，不僅是高品質的材料，還有配套的應用解決方案，也就是solution。

插層石墨研磨設備

研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩定（stabilization）目的。

在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。
 

  磨,分散機組合而成的高科技產品。

    *級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

IKN石墨烯研磨設備采用德國XX的高速研磨分散技術，通過超高
轉速（zui高可達14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉子（通常配CM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流，在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。

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