高純石墨研磨分散機是濕磨機濕磨是干磨的一種安全而高效的替代方案。 分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發生化學反應的物質的混合過程。工業分散的目標是在連續相中實現“令人滿意的”精細分布。
高純石墨研磨分散機
為了實現互不相溶相的分散,必須強力粉碎并混合其粒子。粉碎意味著必須克服表面張力的阻力來形成新表面。分散過程傳遞所需的能量,并保證兩相均質混合。分散的*穩定性會受到確切粒度分布及乳化劑和穩定劑使用的影響。
IKN提供轉子-定子機械裝置來確保的分散效果、良好的清潔度和較長運行壽命。憑借這幾項特點和易維護設計,轉子-定子機械裝置實現滿意的成本/售價比。
高純石墨高純石墨(又名:鱗片狀高導熱碳粉)具有強度高、抗熱震性好、耐高溫、抗氧化、電阻系數小、耐腐蝕、易于精密機加工等優點,是理想的無機非金屬材料。用于加工制作電加熱元件、結構鑄造模、冶煉高純金屬用坩堝舟皿、單晶爐用加熱器、電火花加工石墨、燒結模具、電子管陽極、金屬涂鍍、半導體技術用的石墨坩堝、發射電子管、閘流管和汞弧整流器用的石墨陽極、柵極等。高純石墨經過深加工,又可生產出石墨乳、石墨密封材料與復合材料、石墨制品、石墨減磨添加劑等高科技產品,成為各個工業部門重要的非金屬礦物原料。
有可能你會問 一般國內做碳管或者石墨烯會用砂磨機或者球磨機 超聲波分散機等等? 球磨機或者砂磨機他們偏重研磨炸 會破壞他們的內部結構 。 我們的研磨分散機偏重 分散剝離 。超聲波不適合工業化生產,只是作為一種輔助分散。
研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩定(stabilization)目的。
在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。
納米研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
IKN石墨烯研磨設備采用德國XX的高速研磨分散技術,通過超高
轉速(zui高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉子(通常配CM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質,從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。
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