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EM12 精致型多入射角激光橢偏儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京賽凡光電儀器有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) EM12
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2015/12/25 12:59:28
  • 訪問次數(shù) 634

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


   公司成立于2004年,在同行業(yè)中Z早獲得*,擁有多項(xiàng),其中“太陽(yáng)能電池測(cè)試系統(tǒng)”、“光譜儀”、“精密位移臺(tái)”三大系列產(chǎn)品被市科委、市*等5部門評(píng)為“北京市自主創(chuàng)新產(chǎn)品”,并列入政府采購(gòu)目錄。公司于2009年9月取得ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證。

賽凡擁有兩大核心技術(shù):光譜測(cè)試技術(shù),精密運(yùn)動(dòng)控制技術(shù)

     主要產(chǎn)品系列:太陽(yáng)能電池光譜響應(yīng)/IPCE/QE測(cè)試儀,太陽(yáng)能電池I/V性能測(cè)試儀,太陽(yáng)模擬器,橢偏儀,CCD光電性能測(cè)試儀,熒光/拉曼/發(fā)射/透反吸/探測(cè)器光譜測(cè)試系統(tǒng),光柵光譜儀,CCD光譜儀,科研級(jí)光源,光電探測(cè)器,數(shù)據(jù)采集器,精密定位系統(tǒng),電動(dòng)/手動(dòng)精密位移臺(tái),光具座,光學(xué)平臺(tái)等。

     公司自成立以來,始終秉持質(zhì)量*,滿足用戶的經(jīng)營(yíng)理念,在注重提升自身研發(fā)能力的同時(shí),和多家科研院所保持緊密合作關(guān)系,共同創(chuàng)建光電實(shí)驗(yàn)室,保證產(chǎn)品的*性和適用性。其中太陽(yáng)能光伏實(shí)驗(yàn)室,為各類太陽(yáng)能電池(單晶硅,多晶硅,薄膜電池,染料敏化電池等)的光譜響應(yīng)測(cè)試及膜厚控制提供了完整解決方案。

      我們始終如一,用心為您提供良好完整的解決方案,為您提供專業(yè)高效的技術(shù)支持,為您提供快速響應(yīng)的售后服務(wù),我們的追求就是讓您始終滿意,始終信任,始終選擇 !


單色儀,光源,太陽(yáng)模擬器,太陽(yáng)能電池測(cè)試系統(tǒng),平移臺(tái),精密調(diào)整系統(tǒng),光學(xué)平臺(tái)

EM12是采用量拓科技*的測(cè)量技術(shù),針對(duì)中端精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的精致型多入射角激光橢偏儀。 
EM12可在單入射角度或多入射角度下對(duì)樣品進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量。可用于測(cè)量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;也可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材 料的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實(shí)時(shí)測(cè)量納米薄膜動(dòng)態(tài)生長(zhǎng)中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜的厚度測(cè)量。

    EM12采用了量拓科技多項(xiàng)技術(shù)。

特點(diǎn):

  • 次納米量級(jí)的高靈敏度

    *的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測(cè)量極薄納米薄膜,膜厚精度可達(dá)到0.2nm。

  • 1.6秒的快速測(cè)量

    水準(zhǔn)的儀器設(shè)計(jì),在保證精度和準(zhǔn)確度的同時(shí),可在1.6秒內(nèi)快速完成一次測(cè)量,可對(duì)納米膜層生長(zhǎng)過程進(jìn)行測(cè)量。

  • 簡(jiǎn)單方便的儀器操作

    用戶只需一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的材料測(cè)量和分析過程,數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫(kù)、材料庫(kù)方便用戶進(jìn)行高級(jí)測(cè)量設(shè)置。

應(yīng)用:

  • EM12適合于中端精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。
  • EM12可用于測(cè)量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k;可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;可用于實(shí)時(shí)測(cè)量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
  • EM12可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括:微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。可應(yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括:固體(金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等),或液體(純凈物或混合物)。

技術(shù)指標(biāo):

項(xiàng)目

技術(shù)指標(biāo)

儀器型號(hào)

EM12

激光波長(zhǎng)

632.8nm (He-Ne Laser)

膜厚測(cè)量重復(fù)性(1)

0.2nm (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)

折射率測(cè)量重復(fù)性(1)

2x10-3 (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)

單次測(cè)量時(shí)間

與測(cè)量設(shè)置相關(guān),典型1.6s

zui大的膜層范圍

透明薄膜可達(dá)4000nm

吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)

光學(xué)結(jié)構(gòu)

PSCA(Δ在0°或180°附近時(shí)也具有*的準(zhǔn)確度)

激光光束直徑

1-2mm

入射角度

40°-90°可手動(dòng)調(diào)節(jié),步進(jìn)5°

樣品方位調(diào)整

Z軸高度調(diào)節(jié):±6.5mm

二維俯仰調(diào)節(jié):±4°

樣品對(duì)準(zhǔn):光學(xué)自準(zhǔn)直和顯微對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

樣品臺(tái)尺寸

平面樣品直徑可達(dá)Φ170mm

zui大外形尺寸

887 x 332 x 552mm (入射角為90º時(shí))

儀器重量(凈重)

25Kg

選配件

水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺(tái)

真空吸附泵

軟件

ETEM軟件:

l 中英文界面可選;

l 多個(gè)預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用;

l 單角度測(cè)量/多角度測(cè)量操作和數(shù)據(jù)擬合;

l 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出

l 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫(kù)支持

注:(1)測(cè)量重復(fù)性:是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量25次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。

性能保證:

  • 穩(wěn)定性的He-Ne激光光源、*的采樣方法,保證了高穩(wěn)定性和高準(zhǔn)確度
  • 高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng),保證了快速、高精度的樣品方位對(duì)準(zhǔn)
  • 穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、可靠的樣品方位對(duì)準(zhǔn),結(jié)合*的采樣技術(shù),保證了快速、穩(wěn)定測(cè)量
  • 分立式的多入射角選擇,可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和厚度的測(cè)量
  • 一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),使得系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單、整體穩(wěn)定性提高,并節(jié)省空間
  • 一鍵式軟件設(shè)計(jì)以及豐富的物理模型庫(kù)和材料數(shù)據(jù)庫(kù),方便用戶使用  


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