氣相色譜儀整機、配件、消耗品(安捷倫、賽默飛、日本島津、PE等),液相色譜儀整機、配件、消耗品(島津、安捷倫、Waters、伍豐、賽智等),毛細管色譜柱(蘭化所、SGE、安捷倫、島津、Sigma-Aldrich等),分光光度計(可見、紫外、原子吸收等),電子天平,水分測定儀,烘箱,純水機,色譜相關配件耗材等。
產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,食品,化工,制藥,綜合 |
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產品介紹
適用于(設備)傳統RFIC-EG系統(高達3,000psi)類型氫氧化鉀淋洗液發生罐流速0.1至3.00mL/min。壓力最大值:21MPa(3000psi)溶劑25%甲醇操作用于產生氫氧化物淋洗液。濃度0.1至100mM描述DionexEGCIIIKOH氫氧化鉀淋洗液發生罐UnitSizeEach
利用淋洗液生成功能,防止基線漂移、提高靈敏度、改善分離度并確保一致的峰積分。有各種ThermoScientific™Dionex™EGC淋洗液發生罐可供生成氫氧化物、碳酸鹽、碳酸氫鹽和甲磺酸淋洗液。淋洗液自動生成消除了傳統的IC淋洗液制備方法中對于酸和堿的處理需求,并且允許色譜分析工作人員運行全范圍的梯度和等度分離,且效率比手工制備淋洗液更高。
自動產生高純度淋洗液
·與ThermoScientific™Dionex™ICS-5000+HPIC™、ICS-6000和ICS-2100系統配合使用
·用于等度或梯度分離
·DionexEGC400淋洗液發生罐僅用于在雙EGC模式下供DionexICS-6000HPIC系統執行復雜糖類化合物分析
·獲得出色的批次間重現性
·免除了對酸和堿的處理
·減少泵維護并延長使用壽命;泵只會接觸去離子水
·流速范圍廣泛,典型的從標準孔柱到毛細管柱均適用
·與可承受高達5000psi壓力(34.5MPa,僅限DionexEGC毛細管型和EGC500)的高壓離子色譜系統配合使用
產品特點
·DionexEGCIII和EGC500淋洗液發生罐在1.0mL/min下支持的濃度范圍為0.1–100mM(0.1–80mMEGCIIILiOH)
·DionexKOH、NaOH和LiOH淋洗液發生罐支持最高濃度達25%的甲醇
·DionexK2CO3和MSA淋洗液發生罐與有機溶劑不兼容
·DionexEGC(毛細管)淋洗液發生罐在0.010mL/min下與1-30µL/min(0.001-0.030mL/min)的流速范圍內支持的濃度范圍為0.1–200mM
·DionexEGC-KOH(毛細管)淋洗液發生罐支持最高濃度為25%的甲醇
·DionexEGC-MSA(毛細管)淋洗液發生罐與有機溶劑不兼容
·適用于復雜糖類化合物的雙EGC模式
·通過在雙淋洗液發生罐(雙EGC)模式下運行DionexICS-6000HPIC系統來自動產生淋洗液梯度,以分析復雜糖類化合物。這種新選擇將甲磺酸(MSA)EGC400淋洗液發生罐和氫氧化鉀(KOH)EGC400淋洗液發生罐互相串聯使用,可產生重現性和準確性Extremelyhigh的KOH/KMSA淋洗液梯度來分析復雜糖類化合物(如低聚糖)。
產品訂貨信息:
淋洗液發生器
適用于(設備)傳統RFIC-EG系統(高達3,000psi)類型氫氧化鉀淋洗液發生罐流速0.1至3.00mL/min。壓力最大值:21MPa(3000psi)溶劑25%甲醇操作用于產生氫氧化物淋洗液。濃度0.1至100mM描述DionexEGCIIIKOH氫氧化鉀淋洗液發生罐UnitSizeEach
利用淋洗液生成功能,防止基線漂移、提高靈敏度、改善分離度并確保一致的峰積分。有各種ThermoScientific™Dionex™EGC淋洗液發生罐可供生成氫氧化物、碳酸鹽、碳酸氫鹽和甲磺酸淋洗液。淋洗液自動生成消除了傳統的IC淋洗液制備方法中對于酸和堿的處理需求,并且允許色譜分析工作人員運行全范圍的梯度和等度分離,且效率比手工制備淋洗液更高。
自動產生高純度淋洗液
·與ThermoScientific™Dionex™ICS-5000+HPIC™、ICS-6000和ICS-2100系統配合使用
·用于等度或梯度分離
·DionexEGC400淋洗液發生罐僅用于在雙EGC模式下供DionexICS-6000HPIC系統執行復雜糖類化合物分析
·獲得出色的批次間重現性
·免除了對酸和堿的處理
·減少泵維護并延長使用壽命;泵只會接觸去離子水
·流速范圍廣泛,典型的從標準孔柱到毛細管柱均適用
·與可承受高達5000psi壓力(34.5MPa,僅限DionexEGC毛細管型和EGC500)的高壓離子色譜系統配合使用
產品特點
·DionexEGCIII和EGC500淋洗液發生罐在1.0mL/min下支持的濃度范圍為0.1–100mM(0.1–80mMEGCIIILiOH)
·DionexKOH、NaOH和LiOH淋洗液發生罐支持最高濃度達25%的甲醇
·DionexK2CO3和MSA淋洗液發生罐與有機溶劑不兼容
·DionexEGC(毛細管)淋洗液發生罐在0.010mL/min下與1-30µL/min(0.001-0.030mL/min)的流速范圍內支持的濃度范圍為0.1–200mM
·DionexEGC-KOH(毛細管)淋洗液發生罐支持最高濃度為25%的甲醇
·DionexEGC-MSA(毛細管)淋洗液發生罐與有機溶劑不兼容
·適用于復雜糖類化合物的雙EGC模式
·通過在雙淋洗液發生罐(雙EGC)模式下運行DionexICS-6000HPIC系統來自動產生淋洗液梯度,以分析復雜糖類化合物。這種新選擇將甲磺酸(MSA)EGC400淋洗液發生罐和氫氧化鉀(KOH)EGC400淋洗液發生罐互相串聯使用,可產生重現性和準確性Extremelyhigh的KOH/KMSA淋洗液梯度來分析復雜糖類化合物(如低聚糖)。
產品訂貨信息:
淋洗液發生器
產品描述 | 部件號 |
Potassium Hydroxide Eluent Generator Cartridge (EGC III KOH) | 74532 |
Sodium Hydroxide Eluent Generator Cartridge (EGC III NaOH) | 74533 |
Lithium Hydroxide Eluent Generator Cartridge (EGC III LiOH) | 74534 |
Carbonate Eluent Generator Cartridge (EGC III K2CO3) | 74536 |
Electroytic pH Modifier (EPM III) | 80135 |
Methanesulfonic Acid Eluent Generator Cartridge (EGC III MSA) | 74535 |
EGC-KOH (Capillary) Cartridge | 72076 |
EGC-MSA (Capillary) Cartridge | 72077 |
產品貨號 | 產品描述 | 適用于 |
74532 | Dionex EGC III KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐 | 傳統 RFIC-EG 系統(高達 3,000 psi) |
88453 | Dionex EGC 500 K2CO3 碳酸鉀淋洗液發生罐 | Dionex ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系統 |
74533 | Dionex EGC III NaOH 氫氧化鈉淋洗液發生罐 | 傳統 RFIC-EG 系統(高達 3,000 psi) |
74534 | Dionex EGC III LiOH 氫氧化鋰淋洗液發生罐 | 傳統 RFIC-EG 系統( 耐壓達 3,000 psi) |
74535 | Dionex EGC III MSA 淋洗液發生罐 | 傳統 RFIC-EG 系統耐壓高達 3,000 psi |
72076 | Dionex EGC-KOH氫氧化鉀淋洗液發生罐,毛細管型 | ICS-4000毛細管 HPIC系統和Dionex ICS-5000+毛細管系統 |
72077 | Dionex EGC-MSA 甲磺酸淋洗液發生罐,毛細管型 | ICS-4000 毛細管 HPIC系統和Dionex ICS-5000+毛細管系統 |
75778 | Dionex EGC 500 KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐 | Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC系統 |
75779 | Dionex EGC 500 MSA 甲磺酸淋洗液發生罐 | Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC系統 |
302766 | Dionex EGC 400 KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐 | Dionex ICS-6000 HPIC 標準孔/微孔或混合型系統可采用雙EGC模式 |
302767 | Dionex EGC 400 MSA 甲磺酸淋洗液發生罐 | Dionex ICS-6000 HPIC 標準孔/微孔或混合型系統可采用雙EGC模式 |