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AlN薄膜

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  合肥科晶材料技術有限公司成立于1997年,是由一群來自麻省理工學院和加州大學伯克利分校的材料研究人員創辦的美國MTI公司與中科院合肥物質科學研究院合資興辦的高新技術企業。主要生產氧化物晶體(A--Z)和材料實驗室成套設備:包括“混料-壓料-燒料”(混料機、壓片機、箱式爐、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀、低速外圓鋸、金剛石線切割機、自動研磨、拋光機)。公司自主研發生產上百款不同規格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產品,其中包括:箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、鍍膜機、清洗劑及新能源鋰離子電池研發等相關實驗室設備。現已成為氧化物晶體(A--Z)的主要制造商和材料研究實驗室設備的*,為科研工作者提供材料研究解決方案。產品設計*、性能優異,質量可靠,性價比高,環保節能、返修率低,遠銷到歐洲,美國,日本,德國等許多國家,廣泛應用于物理、化學、冶金、醫學、新能源材料研發等領域,受到客戶*好評。
 
  科晶公司秉承"以人為本、技術為導、誠信為基、積極創新"的經營理念,全力打造材料研發設備的品牌,竭力為科學進步和社會發展做出貢獻。
 

真空管式爐,高溫箱式爐,高速震動球磨機,RTP快速退火爐,高溫高壓爐,涂覆機,電池制備設備等

產品名稱:

氮化鋁(AlN)薄膜

產品簡介:

AllN Epitxial范本saphhire提出了氫化物氣相外延(HVPE)的方法。氮化鋁薄膜又是成本效益的方法,用來取代氮化鋁單晶襯底。科晶真誠歡迎您的垂詢!

技術參數:

尺寸

 dia50.8mm±1mm

藍寶石襯底取向

 c軸(0001)±1.0deg

襯底:

 Al2O3;SiC;GaN

薄膜厚度:

10-5000nm

導電類型:

 半絕緣型

位錯密度:

XRD FWHM of <0002><500arcsec;

XRD FWHM of <10-12><1500arcsec;

有效面積:

>80%

拋光:

單拋光


  產品規格:


氮化鋁(藍寶石襯底):dia2"*1500nm±10%


注:可根據客戶需求定制特殊的方向和尺寸。

標準包裝:

1000級超凈室,100級超凈袋或單片盒封裝


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