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Microwriter ML3 小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)

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  • 我們是誰

    美國Quantum Design公司是科學儀器制造商,其研發(fā)生產(chǎn)的系列磁學測量系統(tǒng)及綜合物性測量系統(tǒng)已成為業(yè)內(nèi)進的測量平臺,廣泛分布于全球材料、物理、化學、納米等研究域的科研實驗室。Quantum量子科學儀器貿(mào)易(北京)有限公司(暨Quantum Design中國子公司) 成立于2004年,是美國Quantum Design公司設立的諸多子公司之,在全權負責美國Quantum Design公司本部產(chǎn)品在中國的銷售及售后技術支持的同時,還致力于和范圍內(nèi)物理、化學、生物域的科學儀器制造商進行密切合作,幫助中國市場引進更多全球范圍內(nèi)的質設備和技術,助力中國科學家的項目研究和發(fā)展。

  • 我們的理念

    Quantum Design中國的長期目標是成為中國與進行進技術、進儀器交流的重要橋頭堡。助力中國科技發(fā)展的十幾年中,Quantum Design中國時刻保持著積進取、不忘初心、精益求精的態(tài)度,為中國科學家提供更質的科學和技術支持。隨著中國科學在舞臺變得愈加舉足輕重,Quantum Design中國將繼續(xù)秉承“For Scientist, By Scientist”的理念,助力中國科技蓬勃發(fā)展,助力中國科技在騰飛!

  • 我們的團隊

    Quantum Design中國擁有支具備強大技術背景、職業(yè)化工作作風的團隊,并致力于培養(yǎng)并引進更多博士業(yè)技術人才。目前公司業(yè)務團隊高學歷業(yè)碩博人才已占比超過70%以上,高水平人才的不斷加入和日益密切的團隊配合幫助QD中國實現(xiàn)連續(xù)幾年銷售業(yè)績的持續(xù)增長

  • 我們的服務


  • Quantum Design中國擁有完善的本地化售前、售中和售后服務體系。國內(nèi)本地設有價值超過50萬美元的備件庫,用于加速售后服務響應速度;同時設有超過300萬美元的樣機實驗室,支持客戶對設備進行進步體驗和深度了解。 “不僅提供超的產(chǎn)品,還提供超的售后服務”這將是Quantum Design中國區(qū)別于其他科研儀器供應商的重要征,也正成為越來越多科學工作者選擇Quantum Design中國的重要原因。



PPMS,MPMS,低溫磁學,表面成像,樣品制備,生命科學儀器

產(chǎn)地類別 進口

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小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng) 

 

    小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)Microwriter ML3是英國Durham Magneto Optics公司為實驗室設計開發(fā),為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究域提供方便高效的微加工方案。

    傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由業(yè)供應商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板 的方法,克服了這問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過電腦控制系列激光脈沖的開關,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

ML3.jpg

    Microwriter ML3 是款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的點。采用集成化設計,全自動控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

 

產(chǎn)品點  

Focus Lock自動對焦功能 
Focus Lock技術是用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,并通過Z向調整和補償,以保證曝光分辨率。
光學輪廓儀 
Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向高精度100 nm,方便快捷。

focuslock.png

Profiometer.png

標記物自動識別
點擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。
直寫前預檢查
軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置、角度,直到設計圖形按要求與已有結構重合,保證直寫準確。

Bullseye.png

VMA.png

簡單的直寫軟件

MicroWriter 由個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行。

Clewin 掩模圖形設計軟件 

可以讀取多種圖形設計文件(DXF, CIF, GDSII, 等)

可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式

書寫范圍只由基片尺寸決定

software.png

 clewin.jpg

 

產(chǎn)品參數(shù) 

Microwriter ML3基本型增強型旗艦型
 大樣品尺寸155×155×7mm155×155×7mm230×230×15mm
 大直寫面積149mm x 149mm149mm x 149mm195mm x 195mm
 曝光光源405 nm LED 1.5W405 nm LED 1.5W385 nm LED 適用于SU-8 
(365+405nm雙光源可選)
 直寫分辨率1μm1μm and 5 μm0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
 直寫速度20mm2/min @ 1μm20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm
25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm
 對準顯微鏡鏡頭x10x3 and x10 自動切換x3, x5, x10, x20 自動切換
 多層套刻精度±1μm±1μm±0.5μm
 小柵格精度200nm200nm100nm
 樣品臺小步長100nm100nm50nm
 光學輪廓Z分辨率無(可升)300nm100nm
 樣品表面自動對焦
 灰度直寫(255)
 自動晶片檢查工具無(可升)
 溫控樣品腔室無 (可升)無 (可升)
 虛擬模板校準工具無(可升)無(可升)
 氣動減震光學平臺無(可升)無(可升)

 

應用案例

 

直寫分辨率1μm

resolution1.png

 

直寫分辨率0.6μm

resolution0_6.png

 

微電制備 

光刻膠上的圖形  Au電 (SEM) Au電(SEM) 
microelectrode1.jpgmicroelectrode2.jpgmicroelectrode3.jpg
設計圖 光刻膠上的圖形   放大圖的顯微結構
microelectrode2-design2.jpgmicroelectrode2-1.jpgmicroelectrode2-2.jpg

 

微結構制備

microstructure1.jpgmicrostructure2.jpg
microstructure2-1.jpgmicrostructure2-2.jpg

 

微流通道制備 

microfluid1.jpgmicrofluid2.jpg

 

其他相關產(chǎn)品 

3D納米結構高速直寫機



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