X射線和γ射線探測器,半導體晶圓片處理儀,勻膠旋涂儀,高通量微波消解儀,生物顯微鏡,離心機,蒸汽消毒柜,視頻光學接觸角測量儀,等離子清洗機,等離子體表面處理儀,等離子蝕刻系統,等離子光刻膠去膠系統,低溫等離子體滅菌系統,等離子表面活化處理系統,色譜儀,光譜儀,醫療輔助設備,醫療器械涂層,
產品介紹:Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機、實用型多功能臺式可編程涂覆儀、新一代實驗用輕便型微控制旋涂儀
Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機也可叫做旋轉涂布機、涂層儀、旋涂儀、涂膜儀、涂覆儀、甩膠機等等。英文常寫作Programmable Spin Coater
Spin-X 小型智能微控制可編程勻膠機是一款體積緊湊,臺式勻膠機,可進行精密薄膜沉積。
Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機適用于半導體、化工材料、硅片、晶圓片、光學玻璃、化學玻璃等表面涂覆材質
Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機應用范圍:
Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機適用于半導體、化工材料、硅片、晶圓片、光學玻璃、化學玻璃等表面涂覆材質
Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機工作原理
Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機采用高速旋轉基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,常用于各種溶膠凝膠(Sol-Gel)實驗中的薄膜制作,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同,也和旋轉速度及時間有關。
Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機可用做:
基礎及應用粗飼料研究
材料表面、薄膜及鑄造件的非破壞性資料控制
半導體薄膜、金屬及玻璃
有機薄膜制備,光學鍍膜及磁膜
液固界面鍍膜
Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機特點:
*、簡單快速、高轉速、高精度、緊湊、省時、高性能、旋轉穩定、精確控制、涂層(厚度)均勻
Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機優勢:
用戶友好人機界面
操作簡單快速
系統設備緊湊,節省寶貴的實驗室空間
快速達到理想轉速
真空托盤的千分表指示
直徑8" 特氟龍涂層工作腔體
透明蓋,防止光刻膠溢出及基片飛出。
氮氣保護設施
配套無油真空泵(選配)
Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機技術規格:
1 微控制器控制 有
2 勻膠旋涂轉速范圍 100 R.P.M to 10,000 R.P.M
3 勻膠旋涂轉速精度 <1%
4 勻膠旋涂加速度 2000 R.P.M/sec. (zui大)
5 勻膠旋涂加速時間 1-9,999 sec/step
6 預設可編程程序 2 (10 steps/program)
7 非易失性存儲器保存選項 有
8 轉速 & 時間實時顯示 LCD 控制面板顯示
9 校準選項 有
10 系統當前狀態顯示 LCD 控制面板顯示
11 輸入及控制選項 鍵盤
12 集成式真空釋放開關 有
13 集成式電源開關 有
14 廢液排放設施 有
15 氮氣保護設施 有
16 涂覆腔體 直徑8" 特氟龍涂層腔體
17 基片托盤 迭爾林(Delrin)材質圓形基片托盤: ½”, 1”, 1½”,
2” ;選配 3” & 4”(直徑托盤)
18 設備尺寸 38cm(W) X 28cm(L) X 28cm(H)
19 設備電源 230 / 220V AC (50 Hz ~)
20 設備功率 150W
如果您對Spin-X小型智能微控制可編程勻膠機感興趣,請索取更詳盡資料!
極科有限公司
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電郵: sales@gikinco.com gikinco: www.gikinco.com
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