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日立分析儀器(上海)有限公司

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>分析儀器>光譜>熒光分光光度計(FLUORO)> 微小器件特性評價裝置nanoEBAC NE4000

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微小器件特性評價裝置nanoEBAC NE4000

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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  日立高新技術(shù)集團(tuán)的企業(yè)理念是“以成為先端技術(shù)領(lǐng)域里提供高科技解決方案的*為目標(biāo)”。在這個理念的指引下,將電子裝置系統(tǒng)、生命科學(xué)系統(tǒng)、信息電子系統(tǒng)、*產(chǎn)業(yè)材料系統(tǒng)等各個事業(yè)部門的“先端技術(shù)”推向世界的Z前線。

  為了應(yīng)對日新月異的技術(shù)革新和需求的多樣化,達(dá)成事業(yè)的化,日立高新技術(shù)集團(tuán)同時具有用先端技術(shù)開發(fā)制造新產(chǎn)品的制造功能和向提供優(yōu)化解決方案的貿(mào)易公司機(jī)能,是一家在先端科技領(lǐng)域里向*更快、更好地提供產(chǎn)品和服務(wù)的性企業(yè)。

  日立高新技術(shù)集團(tuán)Z重視的是在中國地區(qū)的事業(yè)戰(zhàn)略。我們在上海、北京、深圳、香港設(shè)立了獨資公司,這些地方分公司在中國的11個地區(qū)設(shè)有銷售和技術(shù)服務(wù)網(wǎng)點。同時在蘇州和大連還設(shè)有生產(chǎn)基地。日立高新技術(shù)集團(tuán)不但支持中國電子產(chǎn)業(yè)和高科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展的半導(dǎo)體制造,而且提供各種解析設(shè)備,LCD制造和檢查設(shè)備,芯片貼裝設(shè)備等。在保障人民安全和健康的科學(xué)醫(yī)療領(lǐng)域,還提供各種解析、分析儀器及應(yīng)用相關(guān)系統(tǒng)等*開發(fā)產(chǎn)品和相應(yīng)的優(yōu)質(zhì)且完善的售后服務(wù)。此外,日立高新技術(shù)集團(tuán)從中國各地向*提供支持電子、高科技、汽車產(chǎn)業(yè)、環(huán)境和節(jié)能技術(shù)的各種新功能材料的采購解決方案,通過靈活利用網(wǎng)絡(luò)和其貿(mào)易公司功能,實現(xiàn)創(chuàng)造附加價值的事業(yè)模式。

  日立高新技術(shù)中國實業(yè)集團(tuán)作為被大家所信賴的企業(yè),在遵紀(jì)守法的同時,力爭創(chuàng)造新的價值,以“客戶*位為根本”開展工作,探求持續(xù)性發(fā)展,通過營銷活動為中國的高科技產(chǎn)業(yè)、環(huán)境及能源事業(yè)、社會基礎(chǔ)設(shè)施的安全、人民健康等方面的發(fā)展,不斷地做著積極的貢獻(xiàn)。衷心希望今后也能夠繼續(xù)得到大家的支持和厚愛。

熒光光譜,質(zhì)譜,液相色譜

微小器件特性評價裝置nanoEBAC NE4000 特點

  • 采用日立技術(shù)的高效電子束吸收電流表征放大器,生成優(yōu)質(zhì)電子束吸收電流表征圖像。
  • 直觀的圖形用戶界面,具有各種圖像和顏色處理功能。
  • 具有現(xiàn)場考驗實績,低色差,低加速電壓下成像所需的冷場發(fā)射電子槍,減小電路的電子束損傷。
  • 高精度納米探測裝置。
  • 通過樣品室內(nèi)CCD相機(jī)系統(tǒng)實現(xiàn)探測位置的初始定位。


電子束吸收電流表征技術(shù)提供了一種快速,有效地識別內(nèi)部連接開路,高電阻以及短路的方法,無需低平層的直接探測技術(shù)。EBAC技術(shù)利用電子束穿過絕緣層,使低位的金屬層吸收電子束電流。
通過場發(fā)射掃描電子顯微鏡的加速電壓,控制電子束穿透電介質(zhì)層的探測深度。單個探針放置于外露的上層金屬薄膜上,形成閉合回路,以便電子流過連接線。使用兩個探針和日立技術(shù)的差動電子束吸收電流表征放大器,可產(chǎn)生賽貝克效應(yīng),從而觀察高電阻和短路情況。

 

應(yīng)用數(shù)據(jù)(Renesas電子公司樣品)


采用彩色顯示功能,對4層鋁質(zhì)連接線進(jìn)行電子束吸收電流表征成像。
*電流放大器圖像

 

微小器件特性評價裝置nanoEBAC NE4000 規(guī)格

日立

探測裝置
裝置編號 4
驅(qū)動方法 壓電式
微動行程范圍 5μm (X,Y)
粗動行程范圍 6mm (X,Y)
樣品臺/基座臺
樣品尺寸 25mm × 25mm × 1mm 厚或更薄
橫向位置 測量/樣品交換位置
樣品交換 氣鎖交換室
探針導(dǎo)航 樣品臺平移探針定位
測量位置記憶
探針粗調(diào)
CCD圖像顯示 橫向圖像顯示
電子光學(xué)
電子槍 場發(fā)射電子源
加速電壓 0.5kV to 30kV
分辨率 15nm (2kV,工作距離為15mm)
圖像移動 ±150μm (2kV,工作距離為15mm)
電子束吸收電流放大器/圖像顯示
放大器類型 電流放大器/差動放大器
圖像顯示 SEM/EBAC(單一/并列/疊加)
圖像處理 黑白反轉(zhuǎn)顯示,彩色顯示,亮度調(diào)節(jié),積分慢掃描,層區(qū)掃描


 

尺寸與重量

主機(jī) 1,100(W)× 1,550(D)× 1,750(H)mm,
850kg
顯示裝置 1,000(W)× 1,005(D)× 1,200(H)mm,
265kg

安裝環(huán)境要求

室溫 15至25 ºC
濕度 相對濕度不高于60%
電源 AC100V±10% 5kVA (M5接線端子)
接地電阻 不高于100Ω
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