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電子級(jí)CVD金剛石膜片(基底材料)

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提供美國EMS公司的鍍膜儀(噴金儀)、輝光放電儀、低溫灰化儀等等電子顯微鏡周邊儀器,以及電鏡銅網(wǎng)、支持膜、微珊、樹脂包埋劑等等試劑耗材。

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Biotium公司熒光染料
Dumont公司高級(jí)鑷子
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電子顯微鏡相關(guān)的銅網(wǎng)、支持膜、樣品臺(tái)、標(biāo)準(zhǔn)樣
Biospec公司組織研磨器系列

供貨周期 一個(gè)月 規(guī)格
貨號(hào) Electronic Grade CVD 主要用途 在電子、光學(xué)、機(jī)械等工業(yè)領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用

電子級(jí)CVD金剛石膜片(基底材料)

電子級(jí)CVD金剛石膜片(基底材料)不僅強(qiáng)度高,透明度高,而且熱傳導(dǎo)性好,且成本較天然金剛石低,能夠制備各種幾何形狀,理論上對(duì)尺寸是沒有限制的,在電子、光學(xué)、機(jī)械等工業(yè)領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。

    CVD金剛石合成方法的顯著進(jìn)展使得在常規(guī)基礎(chǔ)上制備適合于輻射探測(cè)的金剛石成為可能。CVD方法的不斷改進(jìn),未來可期大面積同質(zhì)外延生長的單晶金剛石平板/薄膜。CVD金剛石具有廣闊的應(yīng)用前景,如射頻二極管、雙極結(jié)型晶體管、場效應(yīng)晶體管、微機(jī)電系統(tǒng)和電子工業(yè)等。不斷的創(chuàng)新和不懈的努力為放射治療劑量計(jì)等醫(yī)學(xué)領(lǐng)域指明了方向。

產(chǎn)品參數(shù):

Lateral Tolerance :

+0.2/-0 mm

Crystallographic Orientation (Miscut) :

+/-3°

Face Orientation :

{100} faces

Crystallography :

Typically 100% single sector {100}

Edges :

Laser Cut

Laser Kerf :

Edge Orientation :

<110> edges

Side Roughness Ra :

polished, Ra < 5 nm on {100} face

Thickness Tolerance :

+/- 0.05 mm

硼含量

<1 ppb

ChargeCollection Efficiency (CCE) :

Typically >95%

Charge Collection Distance (CCD) :

Typically >475µm, @0.5 V µ/m applied field, for 500 µm plate

Nitrogen Concentration :

< 5 ppb

       

產(chǎn)品選擇: 

貨號(hào)

產(chǎn)品描述

尺寸(長*寬*厚)

規(guī)格

 

Electronic Grade CVD

2.0*2.0mm*0.50mm

 

Electronic Grade CVD

3.0*3.0mm*0.50mm

 

Electronic Grade CVD

4.5*4.5mm*0.50mm

 

Electronic Grade CVD

2.0*2.0mm*0.30mm

 

Electronic Grade CVD

3.0*3.0mm*0.30mm

 

Electronic Grade CVD

4.5*4.5mm*0.30mm

    海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司是美國最大的電鏡耗材、電鏡試劑及電鏡儀器供應(yīng)商 Electron Microscopy Sciences 公司(簡稱 EMS )在中國簽訂協(xié)議的總代理,我們致力于將優(yōu)秀的和符合中國客戶需求的產(chǎn)品引入中國!?會(huì)為您提供更多優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品,*,放心使用。
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