>>>全譜直讀光譜儀產品簡介>>>

TY-9000型全譜直讀光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術，采用全數字化技術，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術，與光譜儀技術同步，采用真空光學室設計及全數字化激發光源、的CCD檢測器、高速數據讀出系統，使儀器具有*的性能、極低的檢出線、*的穩定性和重復性。適用于金屬制造業、加工業及金屬冶煉業用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的主要設備之一。滿足冶煉、金屬制造和機械加工的用戶要求，采用全電腦控制全數字火花光源，運用CCD檢測技術及*的真空光室，可精確測定非金屬元素中各種合金元素含量，實現全譜分析。測定結果精準，重現性及*穩定性。

>>>產品特點>>>

1. 可精確測定各種合金元素含量，測定結果精準，重現性及*穩定性；

2. *的真空光學室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。將入射窗與真空室分離使入射窗日常清洗維護方便快捷；

3. 光學系統自動進行譜線掃描，自動光路校準，確保譜線接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作；

4. *的激發臺及氬氣氣路設計，大大降低了氬氣使用量。靈活的樣品夾設計，以滿足客戶現場的各種形狀大小的樣品分析；

5. 不增加硬件設施的情況下，可實現多基體分析。相比光電倍增管光譜儀可大大降低使用成本及使用范圍；

6. 采用噴射電極技術。在激發狀態下，電極周圍會形成氬氣噴射氣流，這樣在激發過程中激發點周圍不會與外界空氣接觸，提高激發精度；

7. 的光譜操作軟件*兼容于windows系統。同時可以根據客戶需求配備各種語言版本。軟件操作簡單即使沒有任何光譜儀知識及操作經驗的人員只需經過簡單的培訓即可上手使用；

8. 采用高性能FPGA、DSP及ARM處理器，具有超高速數據采集分析功能，并能自動實時監測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、激發光源等模塊的運行狀況；

9. 全數字化等離子激發光源，超穩定能量釋放在氬氣環境中激發樣品。全數字激發脈沖，確保激發樣品等離子體能量超高分辨率和高穩定輸出。滿足各種不同材料的激發要求；

10. 樣品激發臺采用銅火花臺底座，鎢材料電極；銅火花臺底座為激發臺提供較好的散熱及堅固等特性，同時鎢電極使用壽命長，耐高溫等特性也提高了激發的性能；電極自吹掃功能的設計，為激發創造了良好的環境，也使激發臺清潔電極更加容易。

>>>技術特點>>>

1、光學系統

1) 分析基體：Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等；

2) 光學結構：帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統；

3) 波長范圍：130-800nm；

4) 焦距：400mm；

5) 光柵刻線：3000條；

6) 探測器：多個高性能CCD探測器；

7) 電極：鎢材噴射電極；

8) 分析間隙：樣品臺分析間隙：3.4mm；

9) 光源類型：全新可調節數字化光源，高能預燃技術（HEPS）；

10) 激發頻率：100-1000Hz；

11) zui大放電電流：400A；

12) 真空系統：真空軟件自動控制、監測，真空光室設計，保證C、S、P、N都能達到*性能，一體化光學室加工成型，耐環境中的溫度變化；

13) 光室恒溫控制：恒溫溫度35℃；直射式光學技術及透鏡MgF2材料，保證C、S、P、N紫外波長的*能量。

2、樣品激發臺

1) 集成氣路、噴射電極技術；

2) 優化的氬氣氣路設計保證激發臺的有效冷卻和激發過程中產生的金屬粉塵有效進入過濾器；使樣品激發更加穩定，并大大減少了人體對金屬粉塵的攝入，有利于保護操作人員的健康安全；

3) 更小的激發空間，使氬氣消耗更小；

4) 便于使用的樣品夾具；

5) 具有電極自吹掃功能，使電極使用壽命更長、清潔電極更加容易；

6) 13mm的激發孔徑更利于樣品分析；

7) 開放式樣品激發臺可適應各種大小、更多形狀樣品的分析（含線材）；

8) 單反式透鏡裝置設計，一般人員都能方便對激發臺進行維護和透鏡的清洗。

3、激發光源

1) 全新可調節數字化光源，zui高頻率可達1000Hz；

2) 高能預然技術（HEPS）；

3) 優化設計的控制和功率電路，完善的激發安全保護功能；

4) 為不同分析目標提供*火花、電弧或組合激發波形；

5) 放電電流：zui大400A。

4、數據采集系統

1) 高性能ARM數據處理器，具有超高速數據采集及控制功能；

2) 高性能CCD固態檢測技術，波段內的譜線全譜接收；

3) 外置式計算機；

4) FPGA及高速數據通訊技術，數據讀入功能強大，檢測數據整體讀入時間短。

5、分析軟件

1) 基于Windows系統的多國語言的CCD全譜圖形化分析軟件，方便實用；

2) *管理的控制整個測量過程及為用戶提供強大的數據處理能力和測試報告輸出能力；

3) 儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質分析及*解決方案；

4) 軟件實現全譜檢測、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力；

5) 完備的自動系統診斷功能；

6) 完善的數據庫管理功能，可方便查詢、匯總數據；

7) 智能校正算法，保證儀器穩定可靠；

8) 完備的譜線信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準；

9) 適應的Windows操作系統。

>>>技術描述>>>

1. 檢測基體：Fe基、鋁基、銅基；

2. 檢測時間：試樣品類型而定，一般25s左右；

3. 光學系統：帕型－龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統；

4. 波長范圍：130～800nm；

5. 焦距：400mm；

6. 探測器：高性能CCD陣列；

7. 電極：鎢材噴射電極；

8. 分析間隙：樣品臺分析間隙：3.4mm；

9. 工作溫度：(10～35)℃；

10. 存儲溫度：(0～45)℃；

11. 工作濕度：20％～80％；

12. 氬氣純度要求：99.999%；

13. 氬氣進口壓力：0.5MPa；

14. 氬氣流量：激發流量約3.5L/min，維持流量約0.4L/min；

15. 激發zui大功率：400VA；

16. 光源類型：全新可調節數字化光源，高能預燃技術（HEPS）；

17. 放電頻率：100-1000Hz；

18. 放電電流：zui大400A；

19. 激發臺孔徑：13mm；

20. 真空系統：真空軟件自動控制、監測；

21. 工作電源：220V AC，50/60Hz，保護性接地的單相電源；

22. 儀器尺寸：860*720*500；

23. 儀器重量：約100kg。