目錄
第一章無機質譜分析方法發展的歷史背景1
第一節質譜儀器1
一、分析器1
二、離子源4
第二節分析方法9
一、火花源質譜法10
二、輝光放電質譜法11
三、二次離子質譜法12
四、電感耦合等離子體質譜法14
五、同位素稀釋質譜法16
六、激光電離質譜法17
七、共振電離質譜法18
八、加速器質譜法19
參考文獻19
第二章輝光放電質譜法22
第一節引言22
第二節輝光放電基本原理23
一、輝光放電23
二、輝光放電的濺射和電離24
三、輝光放電質譜26
第三節儀器29
一、離子源29
二、質量分析器32
三、檢測系統34
第四節輝光放電質譜分析及特點35
一、樣品制備與預處理35
二、分析參數的選擇與分析過程36
三、半定量和定量分析37
四、分析特點和性能比較40
第五節應用42
一、金屬及半導體材料分析42
二、非導體材料分析47
三、深度分析49
參考文獻52
第三章二次離子質譜法54
第一節引言54
第二節一次離子束64
一、一次離子源64
二、一次離子束光路67
第三節入射離子與樣品的相互作用（二次離子發射機理）72
一、濺射產額72
二、二次離子產額80
第四節質譜儀與離子檢測系統84
一、質譜儀84
二、離子信號檢測系統87
第五節二次離子質譜儀90
一、二次離子質譜儀的分類90
二、IMS6F型二次離子質譜儀93
三、樣品95
第六節二次離子質譜法的功能95
一、深度剖析95
二、絕緣樣品的分析108
三、質譜分析——質量掃描109
四、線掃描，二次離子質譜的橫向線分析110
五、微區分析110
六、三維分析112
第七節二次離子質譜法的定量分析112
第八節二次離子質譜法的應用118
一、質譜分析——大分子有機物的鑒別118
二、深度剖析——IC工藝的探索120
三、線掃描分析——金屬中雜質氫的檢測121
四、同位素分析——核燃料235U是否給周圍環境帶來放射性污染的
檢測122
五、二次離子圖像分析——馬口鐵組分的三維分布124
六、絕緣樣品的分析——雜質在SOI材料中的分布124
七、高深度分辨率分析——IC工藝的淺結剖析125
八、硅中痕量硼二次離子質譜定量分析的異常現象126
參考文獻128
第四章激光微探針質譜法130
第一節引言130
第二節激光束132
一、激光輻射132
二、諧振腔133
三、調Q（Q開關）技術134
四、電光調制Q135
五、激光的聚焦136
六、激光的倍頻137
第三節激光與固體的相互作用138
一、激光等離子體屏蔽概念139
二、有機物和無機物的激光解析140
第四節儀器141
第五節激光微探針質譜法的應用146
一、半導體器件表面及體內雜質的鑒定147
二、各種材料微區沾污物的分析149
三、在生物、醫學領域的應用151
參考文獻152
第五章加速器質譜分析153
第一節加速器質譜分析原理153
第二節加速器質譜裝置155
一、離子源與注入器155
二、加速器156
三、高能分析器156
四、粒子探測器156
五、其他加
本書內容分為兩部分：第一部分概括性地敘述了質譜法，特別是無機質譜法的起源、發展和完善過程，以及在近代自然科學發展歷程中它所扮演的重要角色，使讀者得以簡要了解質譜技術，并對無機質譜有全面概括地了解。第二部分，也是本冊書的主要部分，分別從實驗和使用角度描述了輝光放電質譜、二次離子質譜、激光微探針質譜、加速器質譜和同位素稀釋質譜的基本原理、實驗方法和主要應用。并在書末列出了國際最新的原子質量、原子量與同位素表等。
本書適宜從事無機質譜分析和借助于無機質譜方法進行科學研究的科技人員學習參考，也可作為大專院校相關專業師生的參考書。
