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當今，半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需要大量的純水、超純水清洗成品、半成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18.2MΩ·cm、15MΩ·cm、10MΩ·cm、2MΩ·cm、0.5MΩ·cm，以區分不同水質。其中，對于超純水要求最關鍵的指標：電導率（電阻率），總硅，PH值，顆粒度等。因此，線路板、電路板使用純水、超純水因為本身工藝流程的不同對超純水制造的工藝也不同，所以，杭州歐泉科技有公公司會根據客戶的要求，設計適合客戶用水的設備方案。

電子半導體超純水系統工藝流程圖

特征

電子半導體超純水系統設備通常有多介質過濾器，活性炭過濾器，精密過濾器等構成預處理系統，RO反滲透主機系統，離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等構成主要設備系統。水箱設有液位控制系統、水泵設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用模塊化組合PLC，及通信遠程輸送至中控室上位機，實現現場就地和集中控制兩種操作方式，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使該設備與其他同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

應用領域

電子化學品，集成電路，光刻機，以及泛半導體行業用水等。