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激光橢偏儀2
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更新時間:2024-11-18 21:00:07

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簡要描述:激光橢偏儀多角度SE 400adv PV在632.8nm的氦氖激光波長下,在紋理化的單晶和多晶硅片上提供防反射單膜的膜厚和折射率。可更換的晶片載片器允許對多晶晶片和堿性織構的單晶晶片進行測量。

激光橢偏儀

防反射涂層的國際標準

目前國內外已有330多臺SE 400adv PV激光橢偏儀用于表征防反射膜。

粗糙表面分析

高靈敏度和超低噪聲檢測允許在非理想,雜散光造成表面的測量,典型的紋理單晶和多晶硅太陽能電池。

高度準確

SE 400adv PV激光橢偏儀具有穩定的激光光源、穩定的溫度補償裝置、超低噪聲探測器,因而具有穩定性和精度。


多角度激光橢偏儀SE 400adv PV在632.8nm的氦氖激光波長下,在紋理化的單晶和多晶硅片上提供防反射單膜的膜厚和折射率。可更換的晶片載片器允許對多晶晶片和堿性織構的單晶晶片進行測量。

激光橢偏儀SE 400adv PV特別適用于分析SiNx、ITO、TiO2薄膜以及SiO2和Al2O3薄膜鈍化層。雙層堆疊膜可以在光滑的基板上進行分析。

SE 400adv PV是一種緊湊的儀器,快速上升和運行。SENTECH簡單易用,基于配方的軟件包括符合研發和生產環境質量控制要求的預定義應用程序的綜合包。

一種用于光伏應用的便攜式激光橢偏儀可用于在整個生產線運行之前,建立和測試大型PECVD設備。

Laser ellipsometer SE 400adv PV with different table optionsSE 400adv PV laser ellipsometer setManual goniometer from 40° to 90°, set in steps of 5°Laser ellipsometer SE 400adv PV with portability option




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