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日本ULVAC愛發科半導體光電干法刻蝕設備
日本ULVAC愛發科半導體光電干法刻蝕設備
用于光器件和MEMS的NLD-5700干法刻蝕系統是配備磁中性線等離子體（NLD）源的用于大規模生產的干法刻蝕系統。 （采用磁中性線等離子體（NLD）的低壓、低電子溫度、高密度等離子體的干式蝕刻設備，由ULVAC原創開發。）
通過在潔凈室內工作，潔凈室可以擴展到兩個房間（NLD、磁場ICP、CCP和灰化室）。
NLD是一種可以在空間和時間上控制的等離子體，因此干洗很容易。
實現輕松的腔室維護。
我們提供從掩模蝕刻到石英和玻璃蝕刻的工藝解決方案。
半導體技術研究院提供完善的工藝支持系統。
光學器件（衍射光柵、調制器、光波導、光開關等）、不均勻微透鏡。
流體路徑創建 (μ-TAS) 和光子晶體。
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