去離子半導體純水設(shè)備去離子水的工藝大致可分為四種：

第一種：采用陽陰離子交換樹脂取得的去離子水，一般通過之后，出水電導率可降到10us/cm以下，再經(jīng)過混床就可以達到1us/cm以下了。但是這種方法做出來的水成本高，而且顆粒雜質(zhì)太多，達不到理想的要求。已較少采用了。

第二種：預處理（即砂碳過濾器+精密過濾器）+反滲透+混床工藝

這種方法是目前采用最多的，因為反滲透投資成本也不算高，可以去除90%以上的水中離子，剩下的離子再通過混床交換除去，這樣可使出水電導率：0.06左右。這樣是目前常用的方法。

第三種：采用兩級反滲透方式

其流程如下：

自來水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→一級反滲透→PH調(diào)節(jié)→混合器→二級反滲透（反滲透膜表面帶正電荷）→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點

第四種：前處理與第二種方法一樣使用反滲透，只是后面使用的混床采用EDI連續(xù)除鹽膜塊代替，這樣就不用酸堿再生樹脂，而是用電再生。這就*使整個過程無污染了，經(jīng)過處理后的水質(zhì)可達到：15M以上。但這這種方法的前期投資比較多，運行成本低。根據(jù)各公司的情況做適當?shù)耐顿Y。最好不過了。 其流程如下：

原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調(diào)節(jié)系統(tǒng)→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點

去離子半導體純水設(shè)備設(shè)備工藝特點

離子交換設(shè)備是傳統(tǒng)的去離子水設(shè)備，它的產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，造價相對較低。在以往的電廠鍋爐補給水都是采用陽床+陰床+混床處理工藝。

隨著反滲透、EDI等工藝的發(fā)展，離子交換設(shè)備操作復雜，不容易實現(xiàn)自動化，浪費酸堿，運行成本高等缺點更加突出，更多的應用于反滲透的深度處理。

小型的離子交換設(shè)備常采用有機玻璃交換柱，有利于觀察樹脂運行情況。如混合離子交換器再生分層是否充分，陽離子是否“中毒"等，樹脂損耗情況等。

大型的離子交換設(shè)備則采用碳鋼內(nèi)襯環(huán)氧樹脂或襯膠，中間預留可視裝置，以便于離子再生時在線觀測再生液水位狀況。