Edmund Acktar系列產(chǎn)品元件

Acktar 吸光箔與吸光膜

• 漫反射或鏡面反射

• 從 UV 到 IR 的超寬帶性能

• 標準、低釋氣、無粘合劑版本可選

Acktar 吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。Acktar 吸光箔與吸光膜具有高發(fā)射率和低反射率、低釋氣性、出眾的生物兼容性、廣泛的操作溫度范圍，并與 1 級潔凈室兼容。Acktar 吸光箔與吸光膜以預先切割的尺寸或客戶自定義的尺寸提供。

Acktar 吸光箔與吸光膜采用 Metal Velvet™（鋁上的漫射鍍膜）、Spectral Black™（鋁上的半鏡面鍍膜）或 MaxiBlack™（聚酰亞胺上的漫射鍍膜）。Metal Velvet 具有卓/越的光吸收性能，而 Spectral Black 更加耐用。Maxiblack 不僅耐用而靈活，而且不導電，可用于需要使用不導電的吸光材料的應用。

請注意:

Metal Velvet 耐磨性較差，因此在沒有使用適當設備的情況下應避免所有表面接觸.

通用規(guī)格

Edmund Acktar系列產(chǎn)品元件

產(chǎn)品型號

Acktar 吸光箔與吸光膜卷

• 用于批量應用的 25 米大卷格式

• 用于批量應用的 25 米大卷格式

• 標準、低釋氣、無粘合劑選項

• 另外提供更小的紙張尺寸

Acktar 吸光箔與吸光膜卷在 25 米大卷上采用 MaxiBlack™、Metal Velvet™ 和 Spectral Black™ 吸光鍍膜。Acktar 黑色鍍膜用于光學應用，以減少雜散光、提高信噪比并消除不需要的反射。這些*無機的鍍膜具有從 UV 到紅外線的寬帶性能、寬泛的工作溫度范圍、高振動穩(wěn)定性和低釋氣性。Acktar 吸光箔與吸光膜卷是航空航天、汽車、國防和遙感等大面積需要黑化的批量應用的理想選擇。

注意：

如需更長的

Acktar 吸光箔與吸光膜卷，請聯(lián)系我們。

Acktar 吸光箔與吸光膜卷采用 Metal Velvet（鋁上的漫射鍍膜）、Spectral Black（鋁上的半鏡面鍍膜）或 MaxiBlack（聚酰亞胺上的漫射鍍膜）。Metal Velvet 具有卓/越的光吸收性能，而 Spectral Black 更加耐用。Maxiblack 不僅耐用而靈活，而且不導電，可用于需要使用不導電的吸光材料的應用。

通用規(guī)格

產(chǎn)品型號

技術數(shù)據(jù)

Acktar 光吸收板

• 采用可固定的 Acktar Spectral Black™、Metal Velvet™ 與 Hexa-Black™ 技術

• 提供從紫外線到中波紅外線與紫外線到長波紅外線的高性能

• 半球面反射率低

Acktar 光吸收板是吸收式遮光材料的最佳解決方案。使用與 25mm 光學元件兼容的光學接口或涂有粘合劑的替代選件，可將光吸收板輕松集成到光學系統(tǒng)中。Spectral Black™ 和 Metal Velvet™ 板的光吸收率達 99.99%，可提供極/佳的光吸收性能。Hexa-Black™ 版本可在最大 88? 的掠射角范圍內提供寬頻吸收能力。Acktar 光吸收板通常用作遮光材料，非常適用于拉曼光譜、內鏡，激光束轉儲及其他許多應用.

注意:

如需更大尺寸與定制選件，請

聯(lián)系技術支持提出相關請求.

通用規(guī)格

產(chǎn)品型號

技術數(shù)據(jù)

Acktar 涂黑針孔

• 從 EUV 到 SWIR均具備低反射率

• 99% 吸光度的涂黑鍍膜

• 從 50 到 1000μm的孔徑大小

• 備有封裝版和未封裝版

Acktar 涂黑針孔具有 Acktar Magic Black™ 涂黑鍍膜，提供從極紫外線 (EUV) 到短波紅外 (SWIR) 的寬帶低反射率。該鍍膜的排放氣體接近于零，可以在高達 380 攝氏度的溫度下使用. Acktar 涂黑針孔兩側（包括針孔邊緣）涂黑，并且備有未封裝版或 25 mm 封裝版，便于集成到光學系統(tǒng)中。這這些不銹鋼基片針孔是需要對光源低背反射和散射的空間濾光應用的理想之選.

注意: 有關定制孔徑選項的信息，請聯(lián)系我們.

通用規(guī)格

產(chǎn)品型號

Acktar 涂黑氣隙

• 寬帶低反射率鍍膜

• 從EUV 到 SWIR 吸光度 99%

• 縫隙尺寸低至 25μm x 3mm

• 備有未封裝和已封裝版

Acktar 涂黑氣隙非常適用于注重光源背射問題的光孔應用。這些氣隙采用涂有 Acktar Magic Black™ 鍍膜的不銹鋼基片，這是一個超黑低反射鍍膜，適用于從極紫外線 (EUV) 到短波紅外 (SWIR) 的波長。這種寬帶鍍膜在高達 380°C 的溫度下保持穩(wěn)定，使用時不會產(chǎn)生顆粒。Acktar 涂黑氣隙兩側（包括縫隙邊緣）涂黑，并且備有未封裝版或封裝版，可提高機械穩(wěn)定性.

注意：有關定制縫隙大小的信息，請聯(lián)系我們.

通用規(guī)格

產(chǎn)品型號

Acktar Hexa-Black™ C 接口降噪加長套管

• 采用 Acktar Hexa-Black™ 光吸收技術

• 可減少成像系統(tǒng)中的雜散光和噪聲

• 在掠射角的鏡面反射率接近零

• 雜散光抑制比高達 8 x 10^-7

Acktar Hexa-Black™ C 接口降噪加長套管用于在擔心雜散光的 C 接口成像系統(tǒng)中增大圖像距離。這些加長套管采用 Acktar 的 Hexa-Black™ 技術，可在高達 88°. 的掠射角提供*的雜散光吸收能力。超黑的 Hexa-Black 材料經(jīng)過特定設計，在 UV 到 MWIR 的范圍內具有寬帶吸收能力，可提供高達 8 x 10^-7

的雜散光抑制比。與標準陽極電鍍鋁套管相比，Acktar Hexa-Black C 接口降噪加長套管能在成像系統(tǒng)中實現(xiàn)更高的信噪比 (SNR) 和更低的噪聲。提供多種長度，可在相對兩端采用公/母 C 接口螺紋；若您的應用需要自定義尺寸的降噪加長套管，請聯(lián)系我們。

通用規(guī)格

產(chǎn)品型號

技術數(shù)據(jù)

Sample Image Using a Hexa-Black Tube (left) and Anodized Extension Tube (right)

使用六角黑管（左）和陽極氧化延長管（右）的示例圖像

Acktar 黑化激光光束吸收器（光阱和光擋）

• 采用實現(xiàn)激光高吸收率的鍍膜

• 采用管狀或纖薄平直的塊狀設計

• 具有 M6 螺紋孔可輕松安裝接桿

Acktar激光束黑色阱狀光吸收器和塊狀光吸收器采用專為吸收從紫外 (UV) 到長波紅外 (LWIR) 光譜的入射激光而設計的專有涂層。這些 Acktar 涂層可實現(xiàn)小于 10-6 的反射率（阱狀設計），并具有高達 20W/cm2 的激光損傷閾值。運用阱狀設計和塊狀設計的 M6 螺紋孔，可輕松固定到光學接桿上，以便集成到光學系統(tǒng)中。Acktar激光束黑色井狀光吸收器和塊狀光吸收器提供多種大小以適應小型或中型激光束，同時通過降低激光損傷的風險提高了整體的實驗室安全性。平直光束塊狀設計采用后螺釘以連接 92mm 的散射風扇，可實現(xiàn)多個塊狀光吸收涂層的耦合以覆蓋大面積區(qū)域。

通用規(guī)格

產(chǎn)品型號

吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。吸光箔與吸光膜用于在部件上直接鍍膜不實際的應用（包括光學包裝、激光設備和平臺、紅外系統(tǒng)或被動熱控制）中消除光反射。