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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
等離子去膠機，去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中，通入少量氧氣，加1500 V高壓，由高頻信號發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號，使石英管內(nèi)形成強的電磁場，使氧氣電離，形成氧離子、活化的氧原子、氧分子和電子等混合物的等離子體的輝光柱。活化氧（活潑的原子態(tài)氧）可以迅速地將聚酰亞胺膜氧化成為可揮發(fā)性氣體，被機械泵抽走，這樣就把硅片上的聚酰亞胺膜去除了。
等離子去膠機儀器簡介：
等離子去膠機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級。
不同位置的處理均勻性很高，這一特性對于工業(yè)領(lǐng)域進行下一環(huán)節(jié)的貼合、邦定、涂布、印刷等制程十分重要。
等離子去膠機的應(yīng)用：
1. 高分子材料表面修飾。
2. 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
3. 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
5. 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
7. 清洗沉積凝膠的基片。
8. 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
9. 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
10. 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
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