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nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統由深圳市摩方材料科技有限公司自主研發的高精密微納3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統，將需打印模型分層投影至樹脂液面，快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜工業樣件。該技術具有成型效率高、加工成本低等突出優勢，被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一。
基本參數
光源：UV-LED(405nm)
打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等
光學精度：2μm
打印層厚：5-20μm
打印尺寸：
①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）
②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）
③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復陣列模式）
文件格式：STL
設備功率：3000W
系統外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)
重量：550kg
電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW
應用領域：
nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統可廣泛應用于力學超材料、生物醫療、微機械結構、微流控、三維復雜仿生結構等領域
企業簡介：
摩方精密是一家專注于高精密微納3D打印系統及材料的高科技公司，其業務涵蓋高精密3D打印設備的研發及生產、高精密3D打印定制化產品服務、高精密3D打印原材料的研發及生產、高精密3D打印工藝設計開發及相關技術服務，擁有較為完整的高精密微納3D打印產業生態鏈。
作為微納3D打印的探索者，在三維復雜結構微加工領域，摩方團隊擁有超過二十年的科研及工程實踐經驗。
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