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應用領域 | 醫療衛生,食品,生物產業,電子,制藥 | 光學精度 | 2μm |
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打印材料 | 光敏樹脂 | 打印層厚 | 5-20μm |
最大打印尺寸 | 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H) | 光源 | UV?LED(405nm) |
一、高精密增材制造3D打印介紹
nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統由摩方精密自主研發的高精密微納3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術,是目前行業極少能實現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。PμSL技術使用高精度紫外光刻投影系統,將需打印模型分層投影至樹脂液面,快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜工業樣件。該技術具有成型效率高、加工成本低等突出優勢,被認為是目前非常具有前景的微尺度加工技術之一。
二、高精密增材制造3D打印基本參數
光源:UV-LED(405nm)
打印材料:硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等
光學精度:2μm
打印層厚:5-20μm
打印尺寸:
①模式一:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(單投影模式)
②模式二:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)
③模式三:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重復陣列模式)
文件格式:STL
系統外形尺寸:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)
重量:550kg
電氣要求:200-240V AC,50/60HZ,3kW
三、應用領域
nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統可廣泛應用于力學超材料、生物醫療、微機械結構、微流控、三維復雜仿生結構等領域。