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射頻離子源是利用稀薄氣體中的高頻放電現象使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置，在高頻電場中，自由電子與氣體中的原子（或分子）碰撞，并使之電離。

射頻寬波束離子源

RF/F 40 RF/I 40

圖1 射頻寬波束離子源

射頻離子源是利用稀薄氣體中的高頻放電現象使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置，在高頻電場中，自由電子與氣體中的原子(或分子)碰撞，并使之電離。帶電粒子倍增的結果，形成無極放電，產生大量等離子體，高頻場可若管外螺線管線圈產生，則者稱為電感耦合。

1. RF40使用簡單、緊湊的電感功率耦合的無燈絲源，配備特殊電網絕緣調節系統，所有的惰性氣體以及氧氣等活性氣體均可適用于離子源，柵網系統有多種形狀與材料。

2. RF40安裝在儀器內部和外部均可，使用功能陶瓷，維護方便快捷，工作壽命長，射頻電源通過50歐姆電纜提供，不需要額外的匹配單元。

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圖2 射頻寬波束離子源尺寸布局

參數	RF/F40	RF/I40
類型	外部法蘭安裝射頻激勵離子源多孔徑提取柵網	內部安裝射頻激勵離子源多孔徑提取柵網
源材料	放電管：Al₂O₃ 柵網：C或Mo 射頻線圈：鍍銀和水冷銅永磁體：AlNiCo 外殼：不銹鋼射頻匹配元件：Cu和Al₂O₃
柵網類型	2柵網或3柵網系統 3種不同焦距的標準系統
型號	參見上圖（無中和器）
重量	約1.8kg	約1.2kg
法蘭	DN 100 CF	3個DN 40 CF介質引線
RF電源	~75 to 300 W at 13.56 MHz
離子電流	最大50 mA（取決于柵網類型和運行條件）
離子能量	50 到 2000 eV
加速電壓	0 –1000 V
過程氣體	惰性氣體，O₂，N₂，CXHY（無限制）含鹵素氣體（減少柵壽命）
氣流流量	1 -10 sccm 接頭：6 mm Swagelock	1 -10 sccm 接頭：1/8“Swagelock（空氣和真空）
冷卻水	1.5L/min	1.5L/min
電連接	射頻：同軸N型直流：BNC	射頻：同軸N型（空氣和真空） DC:BNC（空氣側），電源接通（真空側）0.5米真空電纜

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