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等離子體加工期間的電弧放電可造成靶和腔室損壞，因而導致基材受損并形成顆粒。隨著特征尺寸的下降，微電子設備越來越容易出現電弧引發的損壞。電弧放電可出現在任何等離子輔助過程中，例如電離物理氣相沉積 （iPVD）、等離子增強化學氣相沉積 （PECVD） 和蝕刻。
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公司經營品牌：GE druck, GE Panametrics,GE Bently,Wika,HBM,Tektronix,BEAMEX,SIKA,E+E，美國華瑞RAE,梅思安MSA，德爾格Draeger，德國IKA，美國奧豪斯，美國哈希hach,安捷倫等品牌，派克Parker,阿托Atos,力士樂Rexroth,哈威Hawe，德國KK,英國Time Electronics,美國斯坦福,英國密其，德國LR-Cal,德國Schleich,澳大利TPS,德國卡爾德意志等進口品牌