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半導體制造技術中的快速進步依賴敏捷而可靠的氣體分析解決方案。在工廠或實驗室中,選擇分析質譜儀以突破檢測障礙并促使您的過程進入更高層次的創新的模塊化設計帶來的性能和適應性。利用 增強競爭優勢,獲得出眾的測量能力。
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更新時間:2019-05-15 09:16:51瀏覽次數:267
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INFICONQMA400分析質譜儀 INFICONQMA400分析質譜儀 INFICONQMA400分析質譜儀
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質量范圍選擇為 1-2048 amu 超過九個數量級的動態量程 極快的測量速度:0.125 ms/amu MDPP < 10E-16 mbar 涵蓋整個質量范圍的高分辨率:質量 1 2 和 3 可在 ppb 范圍內明確地分離 超過 10 個不同的離子源和離子光學組合
公司經營品牌:GE druck, GE Panametrics,GE Bently,Wika,HBM,Tektronix,BEAMEX,SIKA,E+E,美國華瑞RAE,梅思安MSA,德爾格Draeger,德國IKA,美國奧豪斯,美國哈希hach,安捷倫等品牌,派克Parker,阿托Atos,力士樂Rexroth,哈威Hawe,德國KK,英國Time Electronics,美國斯坦福,英國密其,德國LR-Cal,德國Schleich,澳大利TPS,德國卡爾德意志等進口品牌