KDH-500真空電弧爐

一、 KDH-500真空電弧爐設備用途 ：

用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、設備組成：

主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、五工位水冷銅坩堝、翻轉機械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統抽氣、真空測量及電氣控制系統、安裝機臺等各部分組成。

三、設備主要技術參數：

1、型號： KDH-500

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、具有熔煉與吸鑄功能，吸鑄模具與水冷模具套滑配，保證冷卻效果的同時，拆卸方便

4、真空系統配置：飛越直聯泵、分子泵泵、三臺氣動擋板閥和各種管路

5、冷態極限真空度 ≤5.0x10E-4Pa

6、熔煉電流：額定電流≤500A

7、電弧熔煉水冷坩堝：五個工位；其中有一工位用于吸鑄，容重（樣品重量）5-80(克）/熔煉池，四個熔樣工位容重（樣品重量）50-100g(1~2個磁攪拌工位，攪拌可切換

8、攪拌方式：手動懸臂翻料，有機械手翻轉組件；

9、電極桿和機械手均采用球密封機構，簡便有效；電極桿電動升降，操作便攜。

10·爐體側部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗方便看清內部熔化情況。

11，真空系統獨立安裝，方便拆卸并便于和其他真空設備對接，一套多用。

12、工作氣體：Ar氣；

13、冷卻方式：水冷，水壓保護，含自動報警；