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AU靶濺射成膜裝置MSP-mini介紹
2023-3-20 閱讀(614)
AU靶濺射成膜裝置MSP-mini介紹
采用反應射頻磁控濺射法制備Au復合薄膜,并對使用Au靶共濺射、分步濺射方式以及在不同的襯底溫度和Ar/O2氣體流量比下制備的樣品進行X射線光電子能譜、X射線衍射和掃描電子顯微鏡分析,研究了主要工藝參數對復合薄膜表面成分和形貌的影響.結果表明,采用共濺射方式制備的復合薄膜中Au元素的含量偏高,薄膜表面有團聚生長的Au晶粒,而采用分步濺射法可以使復合薄膜中Au元素的摩爾百分比下降到7.30％.采用分步濺射制備復合薄膜時,較高的襯底溫度有助于MgO晶粒的生長,當襯底溫度為500℃,通入Ar氣和O2氣的流量分別為25和5mL/min時,MgO晶粒尺寸達到了30～40 nm;MO薄膜主要呈現出了(111)、(200)和(220)三種結晶取向,較高的Ar/O2氣體流量比有利于(200)晶向的形成,而較低的Ar/O2氣體流量比有利于(220)晶向的形成。
MSP-mini是桌上SEM觀察·光學顯微鏡用離子濺射成膜裝置。
●用一個按鈕自動涂層。沒有任何繁瑣的操作。
●去除所有贅肉的高性價比機。我是MSP-1S的弟弟。
●小型目標（φ30mm）。實現低運行成本。
●標準附帶Au靶。在桌上SEM的預處理中發揮實力。
●可選靶Ag膜具有良好的光澤，便于透明材料表面的光學顯微鏡觀察。
