隨著光電子產業的迅猛發展,清洗工藝在光電產品中是不會缺少的工藝,清洗對產品的質量、精度、外觀等方面的影響也越來越重要。如何保證產品的高可靠性和高成品率,且同時保證生產的安全性及生產過程中對環境的保護?那么,對使用者來說選擇高潔凈度,且又具有安全、環保性能的清洗設備尤為重要,在以往的清洗技術(化學清洗和物理清洗)中,很難達到要求。那在又安全又環保的前提下,如何*清除物體表面的污物?目前國外廣泛使用的清洗方法是紫外光臭氧清洗,它能避免由于使用有機溶劑造成的污染,同時能夠將清洗過程縮短。 紫外臭氧清洗機是一種采用無接觸方式,在空氣中進行且在清洗后不必進行干燥。在清洗過程中主要是依靠等中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態,氣相物質被吸附在固體表面,被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子,產物分子解析形成氣相,反應殘余物脫離表面。
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