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NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD
NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD概述:
針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有加熱的氣體管路、5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、950度樣品臺三個氣體環、PC全自動控制、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、 250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空),*的安全互鎖。
目前,NANO-MASTER(那諾-馬斯特)的這項技術延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統,該系統可以集成到集群配置中以滿足高產量的要求。
NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD型號:
NMC-4000PAMOCVD等離子輔助MOCVD
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