熱蒸發鍍膜

NTE-4000（M）熱蒸發系統概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計算機控制的臺式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備的設計經過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發及小規模生產的應用要求。 NTE-3000熱蒸發系統可以在設定的RMS電流下，或者在閉環的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調節RMS電流以維持恒定的沉積速度。

NTE-4000（M）蒸發系統是一個臺式系統，跟我們的濺射系統共享一個共同的平臺；比如：櫥柜，腔體，真空系統，計算機控制架構等方面都是一樣的。*的區別是一個使用磁控管，另一個使用加熱坩堝. 因此，在我們濺射系統上的許多技術同樣適用到我們的熱蒸發系統中，比如：樣品臺的加熱，旋轉，偏斜；涂覆前的等離子清洗，膜厚監測，序列或同時操作多源；鐘罩、鋁或不銹鋼腔體；預真空鎖以及自動裝片/取片系統等。

NTE-4000跟NSC-4000很像, 除了樣片臺是在頂部并且樣片是面朝下固定。因為有許多的共同點，我們可以提供NTS系列的系統(NTS-3000, NTS-4000)，具有濺射和蒸發兩種能力。通過計算機控制系統，我們可以在同一套系統上提供濺射和蒸發能力，這樣可以充分利用濺射和蒸發技術，而無須中斷真空。

Nano-Master的蒸發系統的另一大*優勢是持續性地控制加熱器電流，而不是震蕩式控制加熱器。系統裝配固態電流控制電路，這點跟許多系統采用的自藕變壓器不同。在該系統中，電流或者RMS值的持續時間被控制。用戶可以選擇一個設定值，它實際上是設定交流電半周期的部分，會出現跟鎢加熱器電線的交叉。這樣，系統可以實現精確快速的電流控制，這使得閉環溫度控制就可以實現。此外，電流控制以及溫度控制，可以滿足蒸發的苛刻要求，無論是對有機材料還是對金屬。我們測量坩堝TB的RMS電壓，RMS電流，和溫度，并通過熱電偶TC跟坩堝底部接觸的方式測量溫度。空坩堝的加熱實驗結果如下圖所示，這些加熱實驗結果是在208V線電壓下進行的。電流和電壓(沒有顯示)通過RMS儀表測量。

通過以上的溫度與電流的關系，我們可以設定并控制電流以達到坩堝內想要的溫度，溫度可以通過熱電偶來測量。材料防止在坩堝中熱損失和加熱時間的常量將會發生變化，然而坩堝內的溫度和熱電偶的測量值之間的關系將不會變化。因此，我們的技術可以實現坩堝內的溫度不依賴于大部分放入的材料，甚至不受線電壓值的影響。

NTE-4000（M）熱蒸發系統產品特點：

• 至大可支持7”的方片或200mm的晶圓片
• 沉積速度可控
• 旋轉的樣品臺
• 雙坩堝
• 2KVA SRC控制電源
• 晶振式膜厚監控儀
• 通過LabView軟件實現PC計算機控制

相似產品型號：

• NTE-4000  基于PC計算機全自動控制的獨立系統
• NTE-3500  基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立系統
• NTE-3000  基于PC計算機全自動控制的雙蒸發源臺式系統
• NTE-1000  計算機控制的單蒸發源臺式系統