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LSC4000 半導體晶圓清洗設備:Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統提供高可重復性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統:Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離,以及濕法刻...
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統:Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...
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