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詳細介紹
蘇州萬濠白光干涉儀 AE-100M
蘇州萬濠白光干涉儀 AE-100M產品用途：
結合光學顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡，結合顯微物鏡與干涉儀、不需要復雜光調整程序，兼顧體積小、納米分辨率、易學易用等優點，可提供垂直掃描高度達400um的微三維測量，適合各種材料與微組件表面特征結合光學顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡，結合顯微物鏡與干涉儀、不需要復雜光調整程序，兼顧體積小、納米分辨率、易學易用等優點和微尺寸檢測。應用領域包含：玻璃鏡片、鍍膜表面、晶圓、光碟/影碟、精密微機電元件、平面液晶顯示器、高密度線路印刷電路板、IC封裝、材料分析與微表面研究等。
產品特點:
● 納米深度3D檢測
● 高速、無接觸量
● 表面形狀、粗糙度分析
● 非透明、透明材質皆適用
● 非電子束、非雷射的安全量測
● 低維護成本
專業級的3D圖形處理與分析軟體（Post Topo）：
● 提供多功能又具友好界面的3D圖形處理與分析
● 提供自動表面平整化處理功能
● 提供高階標準片的軟件自校功能
● 深度、高度分析功能提供線性分析與區域分析等兩種方式
● 線性分析方式提供直接追溯ISO定義的表面粗糙度（Roughness）與起伏度
● （waviness）的測量分析。可提供多達17種的ISO量測參數與4種額外量測數據（Wafer）
● 區域分析方式提供圖形分析與統計分析
● 具有平滑化、銳化與數字過濾波等多種二維快速利葉轉換（FFT）處理功能
● 量測分析結果以BMP等多種圖形檔案格式輸出或是Excel文本文件格式輸出
高速精密的干涉解析軟件(ImgScan)：
● 系統硬件搭配ImgScan前處理軟件自動解析白光干涉條紋
● 垂直高度可達0.1nm
● 高速的分析算法則，讓你不在苦候測量結果
● 垂直掃描范圍的設定輕松又容易
● 有10X、20X、50X倍率的物鏡可供選擇
● 平臺X、Y、Z位置數字式顯示，使檢測目標尋找快速又便利
● 具有手動/自動光強度調整功能以取得*的干涉條紋對比
● 具有高精度的PVSI與高速VSI掃描測量模式供選擇
● 具有的解析算法則可處理半透明物體的3D形貌
● 具有自動補點功能
● 可自行設定掃描方向
技術規格參數：
| 型號 | AE-100M | ||
| 移動臺(mm) | 平臺尺寸100*100 ，行程13*13 | ||
| 物鏡放大倍率 | 10X | 20X | 50X |
| 觀察與量測范圍(mm) | 0.43*0.32 | 0.21*0.16 | 0.088*0.066 |
| 光學分辨力(μm) | 0.92 | 0.69 | 0.5 |
| 收光角度(Degrees) | 17 | 23 | 33 |
| 工作距離 | 7.4 | 4.7 | 3.4 |
| 傳感器分辨率 | 640*480像素 | ||
| 機臺重量(kg)/載重kg | 20kg/小于1kg | ||
| Z軸移動范圍 | 45mm , 手動細調 | ||
| Z軸位置數字顯示器 | 分辨力1μm | ||
| 傾斜調整平臺 | 雙軸/手動調整 | ||
| 高度測量 | |||
| 測量范圍 | 100(μm)(400μm ,選配) | ||
| 量測分辨力 | 0.1nm | ||
| 重復精度 | ≤ 0.1％ (量測高度:>10μm) | ||
| ≤10nm(量測高度1μm 10μm) | |||
| ≤ 5nm(量測高度:<1μm ) | |||
| 量測控制 | 自動 | ||
| 掃描速度(μm/s) | 12(zui高) | ||
| 光源 | |||
| 光源類型 | 儀器用鹵素（冷）光源 | ||
| 平均使用壽命 | 1000小時100W 500小時（150W） | ||
| 光強度調整 | 自動/手動 | ||
| 數據處理與顯示用計算機 | |||
| 中央處理運算屏幕 | 雙核心以上CPU | ||
| 影像與數據顯示屏幕 | 17 " 雙晶屏幕 | ||
| 操作系統 | Windows XP(2) | ||
| 電源與環境要求 | AC100 --240 V 50-60Hz | ||
| 環境振動 | VC-C等級以上 | ||
| 測量分析軟件 | |||
| 量測軟件ImgScan | ImgScan測量軟件：具VSI/ PVSI/PSI 測量模式（PSI量測模式需另選配PSI模塊搭配） | ||
| 分析軟件PosTopo | ISO 粗燥度/階高分析，快速傳利葉轉換和濾波，多樣的2D和3D 觀測視角圖，外形/面積/體積分析，圖像縮放、標準影像文件格式轉換 報表輸出，程序教導測量等。 | ||
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