首頁 >> 供求商機
OTF-1200X-II-HG是一款雙溫區濕度可控氫氣熱處理爐,此設備帶有兩通道氣體控制器,氣液混合罐,露點儀和氫氣探測器,此設備專門設置對材料進行濕氫處理,以達到材料表面部分氧化,同時也進行各種CVD實驗。精密露點儀測量精度可以達到 +/-1.5%RH。若有實驗中發生氫氣微露現象(氫氣爆炸點的10%),3M公司的氫氣探測器將發生報警信號,使整個實驗在安全的環境下進行。
技術參數
爐體結構
|
|
zui大功率 | 4KW |
輸入電壓 | AC 208 - 240V 單相 (需要30A 的空氣開關 ) |
加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁(電阻絲的表面涂有美國進口的高溫氧化鋯涂層,可以提高加熱元件的使用壽命) |
加熱區長度 |
|
zui高工作溫度 | 1200℃(小于1小時) |
連續工作溫度 | 1100℃ |
建議升溫速率 | 10°C /min |
爐管和法蘭 |
|
溫控系統 |
|
氣體控制 |
|
氣液混合罐 |
|
露點儀 |
|
氫氣探測器 |
|
儀器尺寸 | 1400×600×1200mm |
質保期 | 一年質保期(不包括爐管,密封圈和加熱元件等易耗件) |
質量認證 | CE Certified |