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小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù),采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵,清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,可短時間內(nèi)*清洗掉有機(jī)污染物,清洗程度可達(dá)到分子級。另外,其樣品臺可選配加熱功能,可加負(fù)偏壓,用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻。此外,其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。
技術(shù)參數(shù)
主要特點(diǎn) |
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參數(shù) |
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產(chǎn)品規(guī)格 |
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可選配置 |
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