目錄:孚光精儀（中國）有限公司>>激光微納加工系統(tǒng)>>激光全息防偽系統(tǒng)>> FPGEO-HX200自顯影全息薄膜
| 供貨周期 | 兩周 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,綜合 |
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自顯影全息薄膜是新型激光全息感光聚合物膜,特別適合體反射,體透射全息記錄和相位全息感光記錄。適合在440nm-680nm的可見光譜范圍的激光全息感光記錄。不需要后處理,既不需要濕法處理也不需要熱處理即可全息顯影。
自顯影全息薄膜由基材、光敏光聚合物和保護(hù)覆蓋膜的三層堆疊組成。基材是三醋酸纖維素薄膜（TAC），保護(hù)層是聚乙烯薄膜（PE）。保護(hù)覆蓋膜可以從光聚合物上移除。
自顯影全息薄膜構(gòu)成結(jié)構(gòu)
自顯影全息薄膜曝光后的藍(lán)綠色全息圖
自顯影全息薄膜曝光后的RGB全息圖
自顯影全息薄膜在全息復(fù)制機(jī)中的感光實(shí)景
自顯影全息薄膜各種規(guī)格
自顯影全息薄膜訂購規(guī)格
30cm x1m/卷
30cm x 10m/卷
30cm x 15m/卷
30cm x 25m/卷
30cm x 30m/卷
30cm x 50m/卷
30cm x 100m/卷
30cm x 150m/卷
10x10cm-10片/包
10x15cm-18片/包
15x15cm-10片/包
15x20cm-10片/包
20x30cm-5片/包
20x30cm-10片/包
30x30cm-10片/包
30x40cm-5片/包
30x40cm-10片/包
自顯影全息薄膜特性
| 特性 | 數(shù)值 | 測試方法和參考標(biāo)準(zhǔn) |
| 典型襯底厚度 | 60 ± 2微米 | acc. to ISO 4593, 23°C |
| 典型光聚合物厚度 | 16 ± 2微米 | 白光干涉儀 |
| 典型覆膜厚度 | 40微米 | acc. to ISO 4593, 23°C |
| 覆膜密度 | 1.15g/cm3 | ISO 1183, 20°C, Method C |
| 光學(xué)特性 | ||
| 透過率 ( w/o覆膜，未使用前) | 聯(lián)系我們 | ASTM E 01348 |
| Haze霧度 (UV flood cure)) | < 2% | ASTM D 1003 |
| 襯底折射率 nD of | 1.485 | Prism coupler |
| 光聚合物折射率 nD | 1.500 | Prism coupler |
| 光聚合物折射率nD （未使用前） (after UV flood cure2)) | 1.505 | Prism coupler |
| 全息特性: Denisyuk全息數(shù)據(jù) | ||
| 光譜衍射效率 η | > 95% | ISO 17901-1, 零級透射波的透過率 |
| 光譜帶寬 FWHM | ? 15nm | ISO 17901-1, 零級透射波的透過率 |
| 記錄劑量(感光劑量) | ? 30mJ/cm2 | 記錄波長λ = 532 nm; 功率密度: PR= 4.6mW/cm2 |
| 全息特性: 反射全息數(shù)據(jù) | ||
| ***大折射率調(diào)制Δn1/記錄波長λ | ISO 17901-2 | |
| λ = 633 nm | > 0.03 | |
| λ = 532 nm | > 0.03 | |
| λ = 457 nm | > 0.03 | |
| 典型的感光劑量 | ISO 17901-2 | |
| λ = 633 nm | ? 15mJ/cm2 | Applied total dosage |
| λ = 532 nm | ? 20mJ/cm2 | Applied total dosage |
| λ = 457 nm | ? 25mJ/cm2 | Applied total dosage |
| 收縮和光譜漂移 | ||
| 有效厚度收縮(UV flood cure處理后) | ? 1.4% | 反射全息 |
| 光譜漂移( UV flood cure2)) | ? -8nnm | Denisyuk全息:記錄和重建的波長偏離 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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