目錄:孚光精儀（中國）有限公司>>光學(xué)精密儀器>>等離子物理>> FPPLA-EMICON-SA等離子體監(jiān)控儀
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更新時(shí)間：2024-04-25 11:27:20瀏覽次數(shù)：720評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 磁質(zhì)譜 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,綜合 |
等離子體監(jiān)控儀是等離子體清洗等應(yīng)用所需的等離子體光譜儀器,滿足生產(chǎn)線等離子體工藝的整體過程控制和質(zhì)量保證。等離子體監(jiān)控儀EMICON SA系統(tǒng)具有在一個(gè)系統(tǒng)中實(shí)時(shí)收集所有重要過程數(shù)據(jù)的du特組合。
等離子體監(jiān)控儀特點(diǎn)
廣泛的測量數(shù)據(jù)采集
等離子體發(fā)射模塊與光纖光譜儀一起工作以高速連續(xù)采集從UV到NIR的等離子體光發(fā)射的光譜。這個(gè)HIPIMS/Pulse模塊允許對(duì)MHz范圍內(nèi)的電壓信號(hào)和層進(jìn)行觸發(fā)采樣控制模塊獲取生長薄膜的反射光譜和/或透射光譜。此外，信號(hào)輔助傳感器可以通過模擬電壓輸入輸入。
實(shí)時(shí)監(jiān)控等離子體過程參數(shù)
從所獲取的發(fā)射數(shù)據(jù)中，可以選擇任意數(shù)量的等離子體線，持續(xù)監(jiān)控等離子體條件和成分。HIPIMS/Pulse模塊提供電壓以及來自脈沖切片的電流值，例如HIPIMS過程的峰值電流。這個(gè)層控制模塊基于寬帶光譜擬合來計(jì)算膜厚度，或者相對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)顏色空間的顏色值。從模塊獲取的所有數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)導(dǎo)出，并且可以作為時(shí)間的函數(shù)顯示為所謂的監(jiān)視器軌跡從而實(shí)時(shí)提供過程狀態(tài)的全面畫面。
等離子體監(jiān)控儀典型應(yīng)用：過程監(jiān)控，玻璃，涂層，太陽能電池生產(chǎn)線
等離子體監(jiān)控儀規(guī)格參數(shù)
工作類型：fieldbus 系統(tǒng)集成，實(shí)時(shí)過程監(jiān)控
光譜傳感器：200-1100nm
光譜通道：8個(gè)
光譜分辨率：1.5nm
動(dòng)態(tài)范圍：16bit
時(shí)間分辨率：1ms
采樣時(shí)間：250us~分鐘
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)：發(fā)射光譜，脈沖曲線,光譜層,信號(hào)傳感器
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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