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[供應]真空CVD系統
真空CVD系統高溫管式爐和高真空組合系統。爐體采用硅鉬棒加熱zui高溫度可至1700℃,高真空系統采用進口分子泵機組,一鍵操作,簡潔方便,無噪音。系統通過標準配件連接,全部采用不銹鋼材料,電拋光處理。其廣泛應用于熒光粉材料,金屬材料,磁性材料,半導體材料,陶瓷材料,電化學,薄膜材料,CVD,石墨烯,硅納米管,納米線,等研究領域。
產品名稱 | 高真空CVD控制系統 | |
產品型號 | ZX | ZX |
使用真空范圍 | 1X10^-2Pa-1X10^1Pa | 1X10^-3Pa-1X10^1Pa |
真空規管 | 熱偶規管、電離規管 | |
控制方式 | 自動控制 | |
載重量 | | |
工作電源 | AC220V±5% 50Hz | |
真空泵參數 | 雙極真空泵理論極限真空度 0.6Pa(6X10^-1Pa ),抽氣速率 | |
分子真空泵理論極限真空度 0.0000006Pa(6X10^-7Pa),抽氣速率 | ||
擴散真空泵理論極限真空度 0.0000006Pa(6X10^-3Pa),抽氣速率 | ||
外形尺寸(深x寬x高) | 600x6500x | 600x6500x |
重量 | | |
標準配置 | 真空規管2支,波紋管1支,KF卡箍4個,四通1個,高真空手動擋板閥1個 | |
質量 | 整機保修1年,不包含真空規管 | |
配套產品 | SK系列真空/氣氛管式電爐、SX系列真空/氣氛箱式電爐、真空規管、氣體流量控制柜 |
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