 | 天津中環(huán)電爐股份有限公司 |
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石墨烯系統(tǒng)
| 參考價(jià) | 面議 |
- 型號(hào)
- 品牌 中環(huán)電爐
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
- 所在地 天津市
更新時(shí)間：2024-08-27 17:13:56瀏覽次數(shù)：6038
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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 管式爐 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,冶金 |
1 石墨烯系統(tǒng)兼容、常壓、微正壓多種主流的生長(zhǎng)模式
2 石墨烯系統(tǒng)可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長(zhǎng)
3 使用計(jì)算機(jī)控制，可以設(shè)置多種生長(zhǎng)參數(shù)
4 可以制備高質(zhì)量，大面積石墨烯等碳材料，尺寸可達(dá)數(shù)厘米，研究動(dòng)力學(xué)過(guò)程
5 沉積效率高；薄膜的成分精確可控，配比范圍大；厚度范圍廣，由幾百埃至數(shù)毫米，可以實(shí)現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)
產(chǎn)品性：
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產(chǎn)品組成：
PECVD系統(tǒng)配置：
1.1200度開(kāi)啟式雙溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
產(chǎn)品特點(diǎn)：
生長(zhǎng)溫度低；沉積速率快；成膜質(zhì)量好，適用范圍廣，設(shè)備簡(jiǎn)單。
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